真正的限制只有兩個：產品能否裝入真空室內和真空室是否適合?如果產品過大或者產品在真空下不斷發(fā)生水分和氣體，IM膜的達因值那么就不適合于塑料處理。　　真空等離子處理儀真空等離子可以用清理表面和除去有機殘留物，或者在涂漆、噴漆、印刷、電鍍或粘接前促進粘附，材料可以改性和進行表面工程處理以改變表面性能而又不影響原材料。表面工程可以改進摩擦特性、潤滑性能、耐熱性、薄膜的粘結強度。

紫外光清洗技術的應用范圍十分廣泛，膜的達因值例如：各種材料（ITO玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜版、拋光石英晶體、硅）晶片和帶有氧化膜的金屬等的精密清洗處理；清除石蠟、松香、油脂、人體體油以及殘余的光刻膠、聚酰亞胺和環(huán)氧樹脂；高精度印制電路板焊接前的清洗和殘余焊劑去除，以及敷銅箔層壓板的表面清潔和氧化層生成；超高真空密封技術和熱壓焊接前的表面清潔處理以及各種微型元件的清洗等。

Ar等離子刻蝕機對塑料薄膜具有轟擊刻蝕清洗作用，IM膜的達因值使TiO2塑料薄膜表面不連續(xù)、非高密度的顆粒被Ar等離子清洗去除，留下平整、高密度、光滑的塑料薄膜表面。Ar等離子體刻蝕機具有轟擊刻蝕的效果，可以完全去除樣品表面的有機污染物，從而提高TiO2塑料薄膜的表面能；經Ar等離子體處理后，TiO2塑料薄膜表面T14+減少并轉化為T3+，會產生電子-空穴對，空穴與金紅石晶面上的橋接氧反應形成氧空位。

經過預處理后的管材印字可以做到用透明膠帶粘接不掉的出口產品印字要求。處理速度最快可達20-30米/分鐘。塑料噴涂行業(yè)： 包裝盒行業(yè)覆膜開膠問題一直存在，IM膜的達因值在通過等離子表面處理機，能很好的解決覆膜紙、上光紙、淋膜紙、鍍鋁紙、UV涂層、PP、PET等材料發(fā)生粘結不牢，或無法粘結的問題。

IM膜的達因值

- 真空等離子設備涂布技術在真空鍍鋁膜中的應用: 將 - 真空等離子設備與真空鍍鋁技術相結合，根據在基材膜或鍍鋁膜上涂覆功能層，能夠提高鍍鋁層的附著牢度、耐煮沸性、阻隔性和裝飾性，符合不同應用領域的標準。1）經過真空等離子設備預處理的真空鍍鋁薄膜雖然鍍鋁層牢度有了明(顯)提高，但對于一些對鍍鋁層附著牢度標準更高，或者需要用于水煮殺(菌)條件時仍然不能滿足要求。

3） - 真空等離子設備為提高鍍鋁膜的裝飾性能，在基材薄膜鍍鋁前或鍍鋁后進行各種顏色的涂布，或模壓后再進行鍍鋁，使得鍍鋁膜具有多彩的顏色或具有鐳射效(果)。此類產品可分為三種：包裝用膜、裝飾用膜、標示用膜。它主要用于禮品、禮盒的裝飾性或防偽包裝用途，例如：食品、藥品、玩具的外包裝和煙酒的防偽包裝。。

”“無論在現場還是事后，我們都獲得了一致好評--出色的黏合效果！”Plasmatreat團隊對此次成功演示表示非常滿意：Edgar Düvel、Tim Smith、John Philip和Nathaniel Eternal對此次成功演示以及嘉賓們對PlasmA-Sealst?技術的濃厚興趣感到非常興奮。。

2004年，二維結構石墨烯的發(fā)現推翻了“熱力學漲落不允許二維晶體在有限溫度下自由存在”的認知，震撼了整個物理界，它的發(fā)現者——英國曼徹斯特大學物理和天文學系Geim和Novoselov也因此獲得了2008年諾貝爾物理學獎的提名，并獲得2010年的諾貝爾物理學獎。與硅相比，石墨烯在集成電路上具有獨特優(yōu)勢。

IM膜的達因值

3）技術參數：設備型號GY-PQ-D10GY-PQ-R20GY-PQ-R35GY-PQ-R50整機規(guī)格256mm(W)×450mm(D)×200mm(H)，鍍鋁膜的達因值不穩(wěn)定原因12KG噴頭形式直噴旋噴旋噴旋噴噴頭重量1.25KG4.5KG4.5KG4.5KG處理寬度≤10mm≤20mm≤35mm≤50mm電纜長度單根，2.5米雙根，2.5米/根雙根，2.5米/根雙根，2.5米/根電源系統(tǒng)40KHz固態(tài)晶體管等離子發(fā)生源，AC220V（±10%）氣源壓力0.4-0.8MPa，實際使用壓力0.2-0.4MPa噴射距離10-15mm（即噴嘴至材料表面距離）功率整機功率2000W，輸出功率 0-2000W。