但不能去除碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)。光刻膠的去除過程中常采用等離子體清洗。在等離子體反應(yīng)體系中引入少量氧氣，電暈處理影響薄膜熱封在強(qiáng)電場(chǎng)作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，使光刻膠迅速氧化為揮發(fā)性氣體狀態(tài)，抽走物質(zhì)。該清洗技術(shù)操作方便，效率高，表面清潔，無劃痕，有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量。而且它不需要酸、堿和有機(jī)溶劑，因此越來越受到人們的重視。。

通常情況下，電暈處理影響薄膜熱封物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態(tài)，比如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運(yùn)動(dòng)的電子；處于激發(fā)（活性）狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。等離子體清洗機(jī)的機(jī)理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。

處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運(yùn)動(dòng)的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團(tuán)（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，電暈處理影響薄膜熱封但物質(zhì)作為一個(gè)整體保持電中性。在真空室內(nèi)通過射頻電源在一定壓力下產(chǎn)生高能無序等離子體，用等體子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，達(dá)到清洗的目的。

因此，電暈處理影響薄膜熱封等離子體表面改性技術(shù)已成為新材料科學(xué)的前沿領(lǐng)域。碳纖維復(fù)合材料以其優(yōu)異的性能受到越來越多的關(guān)注。但復(fù)合材料的層間性能容易受到破壞，等離子體的出現(xiàn)可以很好地解決這一問題。等離子體表面處理在有機(jī)材料中的應(yīng)用1.1表面接觸角和表面能的變化物體表面的接觸角越小，其潤(rùn)濕性越好。潤(rùn)濕是粘附的必要條件。等離子體處理后，由于引入大量含氧基團(tuán)，表面潤(rùn)濕性明顯提高，有利于表面附著力的增強(qiáng)。

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然而，在能量范圍很寬的等離子體中，電子的激發(fā)或電離不是選擇性的。在等離子體系統(tǒng)中，許多種類的活性粒子會(huì)引起許多反響，而在反響的過程中，操縱特別重要和決定性的粒子幾乎是不可能的。在等離子體環(huán)境中，高能粒子可以打破分子的共價(jià)鍵。電子能量色散函數(shù)尾部的高能電子和非平衡等離子體中強(qiáng)局域電場(chǎng)的參與，很可能完成新的化學(xué)反應(yīng)。等離子體環(huán)境有利于許多化學(xué)反應(yīng)。

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