因此,pet表面電暈處理聯(lián)系方式射頻電暈清洗設(shè)備的激發(fā)頻率越高,對電子的功率吸收就越高,相應(yīng)的離子轟擊能量就會降低。說到微波電暈的放電,這個(gè)沒有自偏壓進(jìn)行清洗,離子濃度高,離子能量低,主要有兩種方式,即表面波型和電子回旋共振型,前者一般用于商業(yè)清洗,通過輻射微波電磁場直接擊穿氣體實(shí)現(xiàn)放電,沒有離子加速,其電子密度高,但通常需要較高的放電壓力,會造成嚴(yán)重的電暈局域化,不利于深度清洗和多級大規(guī)模清洗處理。

電暈處理機(jī)放電原理

Ü收納方式多樣化,pet表面電暈處理聯(lián)系方式可平放,也可懸掛。Ü外部環(huán)形電極可有效避免對腔體的污染。Ü真彩色全中文界面觸摸屏,畫面清晰,操作方便。

(一)控制系統(tǒng):控制系統(tǒng):觸摸屏+PLC(二)勵(lì)磁電源系統(tǒng):電源:13.56MHz射頻勵(lì)磁電源,電暈處理機(jī)放電原理(C)真空室:鋁合金室,(D)工藝氣體系統(tǒng):工藝氣體:氬氫混合物(E)真空泵:油泵主要采用兩級旋片式油泵在設(shè)計(jì)臥式電暈時(shí),應(yīng)充分考慮被處理物品的形狀和尺寸、放置方式和容量要求、產(chǎn)品和材料的特性、處理要求等,限制電極結(jié)構(gòu),使其更加合理適用。

結(jié)果表明,電暈處理機(jī)放電原理稀土氧化物催化劑可以提高C2H6的轉(zhuǎn)化率、C2H4和C2H2的產(chǎn)率,而Pd/Y-Al2O3催化劑可以提高C2H2的產(chǎn)率。

電暈處理機(jī)放電原理

電暈處理機(jī)放電原理

平均粗糙度和表面顆粒半徑的減小增加了ITO與有機(jī)層的接觸面,有利于氧原子的粘附。電暈清洗設(shè)備能更好地改善ITO的表面形貌。同時(shí)可以看到,ITO表面的氧空穴明顯增多,表面富集了一層帶負(fù)電荷的氧,形成界面偶極層,增加了ITO的表面功函數(shù),大大增強(qiáng)了ITO的空穴注入能力。此外,電暈清洗設(shè)備處理后,ITO的表面粗糙度和ITO膜與NPB的界面能降低,空穴注入變得容易,與陰極注入的電子更好地復(fù)合產(chǎn)生激子。

此外,對于易氧化或還原的材料,電暈還可以采用倒置氧氣和氬氫氣的清洗順序,達(dá)到徹底清洗的目的。常見氣體及其作用:1)氬氣:物理轟擊是氬氣清洗的機(jī)理,氬氣原子尺寸大,是最有效的物理電暈清洗氣體,可以用很大的力轟擊樣品表面,正氬離子會被吸引到負(fù)極板上,沖擊力足以清除表面的任何污垢,然后通過真空泵將氣態(tài)污垢排出。

可見,采用各種表面技術(shù)加強(qiáng)材料的表面保護(hù),具有重要的經(jīng)濟(jì)意義和社會效益。

電暈的方向性不強(qiáng),使其深入到物體的微孔和凹陷處完成清洗任務(wù),因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且,這些不易清洗的部位,清洗效果甚至比氟利昂清洗還要好;5.使用電暈,可大大提高清洗效率。整個(gè)清洗過程可在幾分鐘內(nèi)完成,因此具有收率高的特點(diǎn);電暈清洗需要控制真空度在Pa左右,這種清洗條件很容易達(dá)到。

pet表面電暈處理聯(lián)系方式

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