其中,電暈處理是怎么回事物理響應(yīng)機(jī)制是活性顆粒轟擊待清洗的外觀,使污染物離開外觀,zui最終被真空泵吸走;化學(xué)反應(yīng)機(jī)理是各種活性顆粒和污染物發(fā)生反應(yīng)生成揮發(fā)性物質(zhì),再通過真空泵將揮發(fā)性物質(zhì)吸走,進(jìn)而達(dá)到清洗的目的。我們的工作氣體常用氫氣(H2)、氮?dú)?N2)、氧氣(O2)、氬氣(Ar)、甲烷(CF4)等。

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如果柵氧化區(qū)小,電暈處理是怎么回事柵面積大,大柵收集的離子就會(huì)流向小柵氧化區(qū)。為了保持電荷平衡,從襯底注入到柵極的隧道電流也需要增加,增加倍數(shù)為柵極與柵極氧化層面積之比,增加了損傷效應(yīng)。這種現(xiàn)象被稱為“天線效用”.在柵注入的情況下,隧道電流與離子電流之和等于電暈中的總電子電流。由于電流很大,即使沒有天線的增加作用,只要柵氧化層中的場強(qiáng)能產(chǎn)生隧道電流,就會(huì)造成電暈損傷。

隨著體系中CO2濃度的進(jìn)一步升高,電暈處理是怎么回事C2烴產(chǎn)率逐漸降低。這一方面是由于體系中過量的活性氧與CH4分子反應(yīng)形成氧化產(chǎn)物,另一方面是C2烴類產(chǎn)物,促使C2H6、C2H4、C2H2轉(zhuǎn)化為氧化產(chǎn)物。CO產(chǎn)率隨CO2濃度的增加而增加,當(dāng)CO2濃度大于50%時(shí)CO產(chǎn)率趨于穩(wěn)定。同時(shí),隨著CO2濃度從15%增加到85%,產(chǎn)物中H2和CO的摩爾比從3.5下降到0.6。

第三,bopp轉(zhuǎn)移膜需要電暈處理嗎與其他電暈清洗設(shè)備相比,常壓電暈清洗設(shè)備的清洗成本更低,因?yàn)榍逑礂l件下所需真空度僅為PA,不僅清洗條件簡單令人滿意,而且清洗過程中不需要昂貴的有機(jī)溶劑,所以整個(gè)清洗過程的成本降低了,但清洗功率仍然很高,只需要幾分鐘就能完成清洗。第三,目標(biāo)導(dǎo)向也是大氣電暈清洗設(shè)備的一大優(yōu)勢。

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電暈處理可用于日用品及電子產(chǎn)品、高檔家具表面處理,立即噴涂,不掉漆,粘接前表面處理,粘接前表面處理并平滑涂層,印刷前表面處理,涂層堅(jiān)硬,印刷后不掉漆。

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