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低溫等離子體的機理https://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.pnghttps://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.png等離子體是由大量的自由電子和離子組成,山西粉體等離子處理設(shè)備廠家且在整體上表現(xiàn)近似中性的電離氣體,是物質(zhì)存在的另一種聚集態(tài),我們把等離子體沉穩(wěn)物質(zhì)的第四態(tài)或等離子態(tài)。是一種非固體、液體、氣體三態(tài)。等離子體屬于宏觀電中性電離氣體,起運動主要收電磁力支配,并表現(xiàn)出顯著的集體行為。http://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.pnghttp://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.png低溫等離子體的電離率較低,電子溫度遠高于離子溫度,離子溫度甚至可與室溫相當。所以低溫等離子體是非熱平衡等離子體。

清洗HDI板的盲孔時,山西粉體等離子處理設(shè)備廠家等離子一般分為三個步驟。第一步是使用高純度http://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.pngN2http://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.png產(chǎn)生等離子體,同時預(yù)熱印刷電路板以產(chǎn)生特定的活化聚合物材料。狀態(tài);在第二階段,O2http://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.png用于產(chǎn)生等離子體。http://d8d.com.cn/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli14.pngCF4為原始氣體,混合后產(chǎn)生O和F等離子體,與丙烯酸、PI、FR4、玻璃纖維等反應(yīng),達到目的。去污;第三階段以O(shè)2作為原始氣體,產(chǎn)生的等離子體和反應(yīng)殘渣對毛孔壁進行清潔。

它在提高生產(chǎn)效率、降低生產(chǎn)成本的同時,山西粉體等離子處理設(shè)備廠家還不會對電子產(chǎn)品元器件造成損害,同時還能起到良好的凈化作用。電子廠等離子設(shè)備的表面處理技術(shù)也適用于對接合前的處理,如金屬、玻璃等材料,在生產(chǎn)過程中其粘合性不夠,此時可利用等離子體的功效進行表面活化處理,處理后的接合制品粘合性較強,結(jié)合力較好,也不會出現(xiàn)脫落、裂紋等現(xiàn)象。

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采用等離子體技術(shù)分解氣體污染物時,等離子體中的高能電子起決定性的作用。數(shù)萬度的高能電子與氣體分子(原子)發(fā)生非彈性碰撞,將能量轉(zhuǎn)換成基分子(原子)的內(nèi)能,發(fā)生激發(fā)、離解、電離等一系列過程使氣體處于活(化)狀態(tài)。電子能量較低(<10ev)時,產(chǎn)生活性自由基,活(化)后的污染物分子經(jīng)過等離子體定向鏈化學反應(yīng)后被脫除。當電子平均能量超過污染物分子化學鍵結(jié)合能時,分子鍵斷裂,污染物分解。

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