等離子體清洗以物理反應為主，氧化膜附著力檢查方法不發(fā)生化學反應，清洗表面不留氧化物，可保持被清洗物質的化學純度；缺點是表面有少量損傷，會產(chǎn)生很大的熱效應，清洗后物體表面的各種物質選擇性差，腐蝕速率低。用化學反應等離子體進行清洗，優(yōu)點是清洗速度快，選擇性好，更有效地去除有機物，缺點是表面會產(chǎn)生氧化物。與物理反應相比，化學反應的缺點不易克服。

隨著空氣越來越稀薄，氧化膜附著力差怎么回事分子與分子或離子自由移動的距離越來越遠，等離子體在磁場中碰撞而形成光澤。等離子體在電磁場中的空間運動，不斷轟擊被處理物體的外觀，去除外觀的油污、外觀的氧化物、灰化外觀的有(機)物等化學物質，從而達到表面處理、清潔和腐蝕的（效）果。

例如，氧化膜附著力檢查方法氧等離子體氧化性高，可氧化光刻膠產(chǎn)生氣體，從而達到清洗效果；腐蝕氣體的等離子體具有良好的各向異性，可以滿足刻蝕的需要。等離子體處理會發(fā)出輝光，故稱輝光放電處理。等離子體清洗設備的機理主要取決于&ldquo；激活&rdquo；達到去除物體表面污漬的目的。

氬氣本身是惰性氣體，氧化膜附著力檢查方法等離子態(tài)的氬氣并不和外表發(fā)作反響，較常用的工藝是氬等離子經(jīng)過物理濺射使外表清潔。等離子體物理清洗不會發(fā)作氧化副作用，堅持被清洗物的化學純潔性，腐蝕作用各向異性，缺點是對外表發(fā)作很大的損害和熱效應，挑選性差，速度較低。

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氬氣本身是惰性氣體，等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應，而是通過離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?；顫?，容易與碳氫化合物發(fā)生反應，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物，從而去除表面的污染物。

等離子體與工件表面的化學反應與傳統(tǒng)的化學反應有很大的不同。由于高速電子的轟擊，許多在室溫下非常穩(wěn)定的氣體或蒸氣以等離子體的形式與工件表面發(fā)生反應，產(chǎn)生許多奇特而有用的效果。清洗和蝕刻:例如，清洗時，工作氣體經(jīng)常是用氧，它是加速電子轟擊成氧離子、自由基，氧化性很強。

血漿&rdquo；活動&rdquo；成分包括：離子、電子、活性基團、激發(fā)態(tài)核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等，等離子體表面處理機就是利用這些活性成分的性質對樣品表面進行處理，達到光刻膠清洗、改性、灰化的目的。

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A、原子團等自由基與物體表面的反應B、由于這些自由基呈電中性，氧化膜附著力檢查方法存在壽命較長，而且在等離子體中的數(shù)量多于離子，因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要的作用。