該反應(yīng)的主要產(chǎn)物是C2H6、C2H4、C2H2、CO和H2，附著力促進(jìn)劑作用機(jī)理可能的反應(yīng)機(jī)理如下。
劑作用機(jī)理（鋁合金附著力促進(jìn)劑功效）.jpg)
等離子體常用的激勵(lì)頻率有三種:激勵(lì)頻率為40kHz的超聲波等離子體、激勵(lì)頻率為13.56MHz的射頻等離子體和激勵(lì)頻率為2.45GHz的微波等離子體。不同的等離子體產(chǎn)生不同的自偏置電壓。超聲等離子體的自偏置約為1000V，鋁合金附著力促進(jìn)劑功效射頻等離子體的自偏置約為250V，微波等離子體的自偏置很低，僅為幾十伏特，三種等離子體的機(jī)理不同。
2、低溫等離子體降污機(jī)理，附著力促進(jìn)劑作用機(jī)理等離子表面處理器在等離子體化學(xué)反應(yīng)過程中的能量轉(zhuǎn)移，等離子體化學(xué)反應(yīng)中的能量轉(zhuǎn)移大致如下：(1)電場+電子→高能電子的組合；(2)高能電子+分子(或原子)→活性基團(tuán)(受激原子、受激基團(tuán)、游離基團(tuán))；(3)活性基+分子(原子)→生成物+熱；(4)活性基+活性基→生成物+熱。
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等離子清洗機(jī)中加工處理存有著很多的混合氣體分子結(jié)構(gòu)、電子器件和離子外，還存有很多受激發(fā)的中性原子、原子團(tuán)氧自由基及等離子射出去的光束。等離子清潔是充分利用離子、電子器件、受激原子、氧自由基以及射出去的光束與被清潔外表的污染物質(zhì)分子結(jié)構(gòu)分別出現(xiàn)活化反映而因此將污染物質(zhì)消除的全過程。
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