為了探討等離子體作用下純乙烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)的可能機(jī)理，附著力與剪切力區(qū)別在相同等離子體條件下考察了純乙烯的轉(zhuǎn)化反應(yīng)，其反應(yīng)的主要產(chǎn)物是：C2H2和CH4及少量積碳。根據(jù)上述實(shí)驗(yàn)事實(shí)，結(jié)合等離子體作用下甲烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)機(jī)理及等離子體特性，推測(cè)C2H6在等離子體條件下轉(zhuǎn)化反應(yīng)的歷程如下。（1）等離子體場(chǎng)產(chǎn)生高能電子。自由電子在電場(chǎng)E作用下加速，生成高能電子e*： e + E → e*（3-26）（2）引發(fā)自由基反應(yīng)。

主要是通過(guò)產(chǎn)品的表面等離子體產(chǎn)生一系列的物理和化學(xué)變化,活性粒子和高能射線的使用包含在表面的有機(jī)污染物分子的反應(yīng)和碰撞形成小分子揮發(fā)性物質(zhì),從表面,達(dá)到清潔的效果。等離子射頻等離子清洗機(jī)的基本系統(tǒng)選擇主要包括頻率的選擇、腔體材料的選擇、機(jī)器真空泵的選擇以及氣路的選擇。等離子體頻率選擇:現(xiàn)在常用的頻率有40KHz、13.56MHz、20MHz。這三種積分頻率的形成機(jī)理不同于處理過(guò)程。

由于高溫等離子體對(duì)物體表面的強(qiáng)烈影響，附著力與剪切力區(qū)別在實(shí)際應(yīng)用中很少使用。目前只使用低溫等離子體。(2)活性氣體和惰性氣體等離子體,根據(jù)使用的不同化學(xué)性質(zhì)的氣體產(chǎn)生等離子體,可以分為惰性氣體等離子體活性氣體等離子體,惰性氣體,如氬氣(Ar)、氮(N2),氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4),等，活性氣體，如氧氣(O2)和氫氣(H2)，在清洗過(guò)程中有不同的反應(yīng)機(jī)理。

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涂層附著力與耐候性機(jī)理

活性粒子產(chǎn)生通過(guò)等離子體輻射的紫外光高能電子與中間氣態(tài)分子混合相互作用，這些由電子激發(fā)產(chǎn)生的活性物質(zhì)，即參加反應(yīng)的活性種粒子，其產(chǎn)生過(guò)程如下：式中：hv——等離子體輻射的紫外光能。

(3)工藝氣體通常是高潔凈氣體，過(guò)濾器通常也是選裝組件。工藝氣體控制部分主要包括調(diào)壓閥、過(guò)濾器、報(bào)警器、報(bào)警器輸出報(bào)警器表、真空電磁閥及質(zhì)控器。工藝氣體一般是兩路，也可以根據(jù)實(shí)際需要配置多路工藝氣體。(4)按照這種氣路布置，進(jìn)氣順序是：先由過(guò)濾器將氣體輸送到調(diào)壓閥，壓力表輸出表，然后依次通過(guò)真空電磁閥和質(zhì)量控制器。

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等離子體表面處理器工藝還具有以下五大優(yōu)勢(shì)：1.環(huán)保技術(shù)：等離子體表面處理工藝為氣固相干反應(yīng)，不消耗水資源，不添加化學(xué)物質(zhì)。2.效率高：整個(gè)流程可在短時(shí)間內(nèi)完成。3.成本低：裝置簡(jiǎn)單，操作維護(hù)方便，少量氣體代替昂貴的清洗液，無(wú)廢液處理費(fèi)用。4.處理更精細(xì)：可進(jìn)一步精細(xì)孔洞和凹陷，完成清潔任務(wù)。5.適用性廣：等離子體表面處理工藝可實(shí)現(xiàn)對(duì)大多數(shù)固體物質(zhì)的處理，因此應(yīng)用廣泛。

涂層附著力與耐候性機(jī)理