這些等離子蝕刻機(jī)直接影響和決定了整個(gè)表面處理設(shè)備的解決方案。等離子蝕刻機(jī)在加工過(guò)程中有以下特點(diǎn):1。等離子蝕刻機(jī)增強(qiáng)金屬表面的親和力,噴漆附著力怎么解決同時(shí)減少氣泡鍵合;等離子蝕刻機(jī)解決表面不平整問(wèn)題。

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  在進(jìn)行等離子刻蝕操作時(shí),其射頻電源所產(chǎn)生的熱運(yùn)動(dòng)會(huì)使質(zhì)量小、運(yùn)動(dòng)速度快的帶負(fù)電自由電子很快抵達(dá)陰極,而正離子則是由于質(zhì)量大、速度慢而很難在同一時(shí)刻到達(dá)陰極,然后就會(huì)在陰極附近構(gòu)成帶負(fù)電的鞘層,正離子在這個(gè)鞘層的加快之下,就會(huì)筆直的轟擊在硅片的表面,然后使得表面的化學(xué)反應(yīng)加快,而且會(huì)使得反應(yīng)生成物脫離,因而其刻蝕速度極快,離子的轟擊也會(huì)使各向異性刻蝕得以實(shí)現(xiàn)。

當(dāng)等離子表面處理機(jī)在低溫ECR蝕刻過(guò)程中增加O2的相對(duì)流量,硅蝕刻速率會(huì)明顯增加,并且F含量和O2含量的比值在蝕刻過(guò)程中起到了很重要的作用。

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a 物理反應(yīng)清洗:使用氬氣等惰性氣體時(shí),不易與其他氣體發(fā)生反應(yīng),離子質(zhì)量如下。

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