對于太陽能電池上的蓋板玻璃,其透過率直接影響太陽能電池的發(fā)電效率，達因值越小表面越但玻璃表面存在反射從而造成光能損失. 太陽能電池的長期露天放置,表面粉塵污染物的覆蓋會嚴重影響透光效率因此，兼具有減反射和自清潔性能的表面越來越受到關(guān)注，國內(nèi)外大多采用在玻璃表面制備減反射涂層來實現(xiàn)玻璃減反，這種減反射涂層是通過物理或者化學方法制備而成的單層薄膜或多層薄膜，它的作用原理是控制薄膜厚度約為入射光波長的1/4,從而使得該波長人射光在界面處發(fā)生干涉來實現(xiàn)減反;或是通過涂層的制備實現(xiàn)了空氣到玻璃折射率的漸變,從而實現(xiàn)減反.但是這種方法存在很多缺陷,例如:在自然環(huán)境中可靠性和耐久性差、熱力學穩(wěn)定性差、附著力差、對厚度變化敏感以及只對狹窄波長和角度有效等.1)通過金屬鎳納米顆粒保護,再經(jīng)過ECR等離子體刻蝕后,可以在平滑的玻璃表面制備出山峰狀結(jié)構(gòu)，且分布均勻,尺寸約在80 ~ 140nm.2)經(jīng)過ECR等離子體刻蝕后制備出的山峰狀結(jié)構(gòu),能有效提高可見光的透過率，尤其在有偏壓條件下,刻蝕后最高透過率可達94. 4%.3)刻蝕產(chǎn)生的表面山峰狀納米結(jié)構(gòu)進一步增強表面的潤濕特性，硼硅玻璃在刻蝕前潤濕角為47.2°,刻蝕后潤濕角變?yōu)?.4°,潤濕性明顯提高，從而具有了一定的防霧和自清潔性能.。

同時，達因值越小表面越聚氨酯膠粘劑層的厚度要高于環(huán)氧膠粘劑層，且聚氨酯膠粘劑層的橫截面越大，其抗剝離性能越好聚氨酯與環(huán)氧膠粘劑的粘接強度在研磨后提高，等離子體處理后降低。在等離子體處理過程中，含有氧和氫的等離子體處理會直接吸引表面上的活性基團，提高表面活性，提高與膠粘劑的結(jié)合力;隨著表面結(jié)合能的增加，氧原子的比例大大增加，表面含氧官能團增多，起主要作用的界面結(jié)合力下降，導致等離子體處理后的結(jié)合性能下降。

俗話說得好，達因值越小表面越魚與熊掌不可兼得，但此時此刻，我們用自己的行動向人們證明，“超油”新型水性鋼化玻璃墨水可以打破這一傳統(tǒng)。。等離子清洗設(shè)備通過等離子轟擊去除玻璃表面涂層殘留的膠水，對產(chǎn)品表面進行清洗。達到清洗的目的。玻璃表面越干凈，接觸角越小。如果玻璃潔凈度不高，等離子清洗后接觸角會降低。。玻璃蓋板等離子清洗介紹:為滿足玻璃蓋板生產(chǎn)線的需要，可選用等離子清洗設(shè)備對產(chǎn)品進行清洗。

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經(jīng)過長時間的等離子體處理（15分鐘以上），材料表面不僅被活化而且被刻蝕，刻蝕后的表面具有非常小的表面接觸角和最大的潤濕能力。等離子體涂層聚合在涂層中，兩種氣體同時進入反應室，氣體在等離子體環(huán)境中會發(fā)生聚合。這種應用比激活和清洗更嚴格。典型應用是形成保護涂層，應用于燃料容器、耐劃傷表面、類似聚四氟乙烯(PTFE)材料的涂層、防水涂層等，涂層很薄，通常幾微米，此時表面疏水性很強。

1995年的微電子工業(yè)的全球銷售額已達1400億美元，其中三分之一的微電子器件的設(shè)備是采取等離子體技術(shù)。以"奔騰"芯片為代表的半導體微處理器的復雜生產(chǎn)過程中，三分之一是與等離子體有關(guān)的?，F(xiàn)代塑料包裝產(chǎn)品中的印刷、復合、涂布等工藝百分之九十都依賴低溫等離子體的處理。。什么是低溫（冷）等離子體？冰升溫至0℃會變成水，如繼續(xù)使溫度升至 ℃，那么水就會沸騰成為水蒸氣。

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現(xiàn)有的家用等離子清洗工藝存在清洗不均勻的問題。針對這一問題，我們將簡要介紹等離子清洗設(shè)備的基本原理，分析介紹等離子清洗工藝在芯片鍵合前的應用，并說明封裝內(nèi)部的污染。瞄準行業(yè)。這個問題提出了一個可能的解決方案。等離子清洗稱為干洗。該裝置利用高頻等離子體源的激發(fā)，將工藝氣體激發(fā)成離子狀態(tài)，與清洗劑表面的污染物發(fā)生物理和化學反應。去除真空泵反應產(chǎn)生的污染物，起到清潔作用。等離子清洗的效果影響產(chǎn)品的良率。

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