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1999年出版的《硅谷英雄》提到了兩位密切參與低溫等離子刻蝕設(shè)備開發(fā)的中國人。其中一位是林潔平博士（DAVID K., LAM），廣東小型真空等離子表面處理機價格出生并畢業(yè)于中國廣東。 1967年加拿大多倫多大學(xué)。他在物理學(xué)院和后來的麻省理工學(xué)院獲得化學(xué)工程學(xué)士學(xué)位（1970 年）和博士學(xué)位（1973 年）。林潔平博士已經(jīng)開始提出單片刻蝕模式，以保證最佳可控刻蝕工藝環(huán)境。

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