C2烴和CO的產(chǎn)率峰形基本發(fā)生變化。這表明在一定范圍內(nèi)增加BaO負載量有利于提高催化活性，數(shù)控等離子編程軟件但負載量過高時，BaO會在Y-Al2O3表面堆積，催化催化劑活性降低。催化劑的焙燒溫度影響催化劑活性顆粒的尺寸和表面形貌，并在一定程度上影響催化劑的反應(yīng)性。一般來說，在較低的煅燒溫度下，更容易獲得高度分散的小顆粒，晶格結(jié)構(gòu)往往有缺陷，而在較高的煅燒溫度下，可以獲得較大的顆粒。

這種結(jié)構(gòu)就是護套層，斯達峰數(shù)控等離子參數(shù)設(shè)置可以是上面的電容器。電容器處于放電環(huán)境中，電荷存儲在表面上，從而產(chǎn)生電場。電場必須對應(yīng)于電壓。由于平衡，也就是這個電場，和電壓是動態(tài)的靜電場，也就是直流電場和直流電壓，就形成了一個VDC。腔室的內(nèi)壁接地，形成的偏置場阻擋電子，因此這個 VDC 在接地的內(nèi)壁上具有負值或負偏置。施加到電極上的負偏壓與射頻電壓一起形成復(fù)合電壓，如下圖所示。

使用20KHz左右的頻率，斯達峰數(shù)控等離子參數(shù)設(shè)置可以得到比較少的空化氣泡，但由于空化強度高，噪音大，清洗大零件表面與物體表面結(jié)合強度高的工件即可。用于。頻率在40KHz左右，相同聲壓下產(chǎn)生的空化氣泡數(shù)量多，但破壞時的空化強度低，噪音低，穿透力強，因此適用于復(fù)雜的表面。 ，盲孔、污垢、表面附著力較弱的工件。

例如，斯達峰數(shù)控等離子參數(shù)設(shè)置氧氣、氮氣、甲烷和水蒸氣等混合氣體聚合物在高頻電場下處于低電壓狀態(tài)。在光放電的情況下，可以分解原子團和大分子的加速運動。然后可以將粒子分解為原子和大分子電子以及正電荷和負電荷。帶電粒子和電子在被電場加速并與周圍的大分子或原子團碰撞時獲得高能量。因此，分子和原子將電子激發(fā)成受激和離子形式。此時，化學(xué)物質(zhì)存在的形式是等離子體的形式。

斯達峰數(shù)控等離子參數(shù)設(shè)置

表 4-2 堿土金屬氧化物催化劑對反應(yīng)的影響（單位：%） . 315.734 .4SrO / Y-Al2O324.619.366.216.334.2BaOr / Y-Al2O326.419.463.316.735.6 BaO負載量和催化劑燒成溫度對負載為5%時負載型堿金屬氧化物催化劑的催化活性是恒定的。 . BaO 負載增加，CH4 和 CO2 的轉(zhuǎn)化率出現(xiàn)峰形變化，在負載 10% 時達到峰值。

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