等離子體清洗的原理主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。等離子體清洗通常包括以下過程：1.無機氣體被激發(fā)成等離子體態(tài)；2.氣相物質(zhì)吸附在固體表面；3.吸附基團與固體表面分子反應(yīng)形成產(chǎn)物分子；4、產(chǎn)物分子分解成氣相；5.反應(yīng)殘留物從表面除去。

用非聚合無機氣體(Ar2.N2.H2.02等)等離子體進行表面反應(yīng)，涂料附著力原理動畫通過表面反應(yīng)將指定基團引進到表面，在經(jīng)過等離子體活(化)形成表面自由基的過程中，產(chǎn)生表面自由基，使其表面自由基位置發(fā)生進一步反應(yīng)，從而產(chǎn)生指定基團；比如過氧化氫。較常用的是在聚合物材料表面導(dǎo)人含氧基團。例如-0路路-00路。也有人將胺基團引進材料表面。

利用等離子處理時會發(fā)出輝光，涂料附著力原理動畫故稱之為輝光放電處理。等離子體處理的機理，主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機理來看，等離子清洗通常包括以下過程：無機氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。

而等離子設(shè)備采用中頻電源時，無機富鋅防滑涂料附著力功率大、能量強、冷卻溫度高，無需加水。因此，清洗不耐溫度的材料時，有必要注意溫度。等離子體設(shè)備常用的電源有兩種。一種是13.56khz的射頻電源，產(chǎn)生高等離子體密度、軟能量和低溫。

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等離子表面清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，然后與有機污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達到表面清潔活化的目的。。

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通過活性等離子體在真空瞬時高溫條件下對孔壁中的鉆孔污染物、殘膠、油污等污染物做好物理轟擊和化學(xué)反應(yīng)，使其部分蒸發(fā)或在高能離子體的沖擊下破碎，使被清洗物體的表面物質(zhì)變成顆粒和氣體物質(zhì)，通過抽真空排出，達到清洗目的。

處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。

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