等離子體清洗以物理反應(yīng)為主,氧化膜附著力檢查方法不發(fā)生化學(xué)反應(yīng),清洗表面不留氧化物,可保持被清洗物質(zhì)的化學(xué)純度;缺點(diǎn)是表面有少量損傷,會(huì)產(chǎn)生很大的熱效應(yīng),清洗后物體表面的各種物質(zhì)選擇性差,腐蝕速率低。用化學(xué)反應(yīng)等離子體進(jìn)行清洗,優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快,選擇性好,更有效地去除有機(jī)物,缺點(diǎn)是表面會(huì)產(chǎn)生氧化物。與物理反應(yīng)相比,化學(xué)反應(yīng)的缺點(diǎn)不易克服。
隨著空氣越來(lái)越稀薄,氧化膜附著力差怎么回事分子與分子或離子自由移動(dòng)的距離越來(lái)越遠(yuǎn),等離子體在磁場(chǎng)中碰撞而形成光澤。等離子體在電磁場(chǎng)中的空間運(yùn)動(dòng),不斷轟擊被處理物體的外觀,去除外觀的油污、外觀的氧化物、灰化外觀的有(機(jī))物等化學(xué)物質(zhì),從而達(dá)到表面處理、清潔和腐蝕的(效)果。
例如,氧化膜附著力檢查方法氧等離子體氧化性高,可氧化光刻膠產(chǎn)生氣體,從而達(dá)到清洗效果;腐蝕氣體的等離子體具有良好的各向異性,可以滿足刻蝕的需要。等離子體處理會(huì)發(fā)出輝光,故稱輝光放電處理。等離子體清洗設(shè)備的機(jī)理主要取決于“激活”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。
氬氣本身是惰性氣體,氧化膜附著力檢查方法等離子態(tài)的氬氣并不和外表發(fā)作反響,較常用的工藝是氬等離子經(jīng)過(guò)物理濺射使外表清潔。等離子體物理清洗不會(huì)發(fā)作氧化副作用,堅(jiān)持被清洗物的化學(xué)純潔性,腐蝕作用各向異性,缺點(diǎn)是對(duì)外表發(fā)作很大的損害和熱效應(yīng),挑選性差,速度較低。
氧化膜附著力檢查方法
氬氣本身是惰性氣體,等離子體的氬氣不和表面發(fā)生反應(yīng),而是通過(guò)離子轟擊使表面清潔。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧氣等離子體清洗。通過(guò)等離子體產(chǎn)生的氧自由基非?;顫?,容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等易揮發(fā)物,從而去除表面的污染物。
等離子體與工件表面的化學(xué)反應(yīng)與傳統(tǒng)的化學(xué)反應(yīng)有很大的不同。由于高速電子的轟擊,許多在室溫下非常穩(wěn)定的氣體或蒸氣以等離子體的形式與工件表面發(fā)生反應(yīng),產(chǎn)生許多奇特而有用的效果。清洗和蝕刻:例如,清洗時(shí),工作氣體經(jīng)常是用氧,它是加速電子轟擊成氧離子、自由基,氧化性很強(qiáng)。
血漿”活動(dòng)”成分包括:離子、電子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等,等離子體表面處理機(jī)就是利用這些活性成分的性質(zhì)對(duì)樣品表面進(jìn)行處理,達(dá)到光刻膠清洗、改性、灰化的目的。
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氧化膜附著力檢查方法
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A、原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng)B、由于這些自由基呈電中性,氧化膜附著力檢查方法存在壽命較長(zhǎng),而且在等離子體中的數(shù)量多于離子,因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要的作用。