1.電暈發(fā)生器(點擊查看詳情)按電暈火焰溫度劃分:(1)高溫電暈:溫度相當(dāng)于108~109K的完全電離電暈,電暈處理機qx310如太陽和受控?zé)岷司圩冸姇?。?)低溫電暈:電暈發(fā)生器熱電暈:致密高壓(1大氣壓以上)、溫度103~105K等電弧、高頻和燃燒電暈。

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電暈技術(shù)參數(shù)光束光斑處理寬度3-10毫米(可選)標(biāo)準(zhǔn)導(dǎo)管長度3米-6米供給需求電源220 V/50 Hz,電暈處理機qx310單相,(**4安培)壓力收縮空氣干洗空氣(6巴,88 psi),1275升/小時其他可用氣體N2,N2/H2,O2,C O2,He體重25公斤。電暈清洗的主要特點是不管被處理對象的襯底類型如何都能處理,電子行業(yè)也能處理得很好。它只需要很低的氣流就能實現(xiàn)整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗。

電暈表面處理設(shè)備常問的問題!1.電暈器設(shè)備的處理時間?電暈設(shè)備對聚合物表面的化學(xué)修飾是由于自由基。電暈設(shè)備處理時間越長,電暈處理和火花處理有什么不同放電功率越大,因此需要很好的掌握。2.電暈器的威力有多大?常用電暈設(shè)備的功率約為1000瓦。3.電暈處理器處理的產(chǎn)品可以保存多久?這是基于產(chǎn)品本身的材料。

(一)高壓激勵電源:電暈的產(chǎn)生需要高壓激勵,電暈處理機qx310用頻率為10-40kHz的中頻電源激勵大氣低溫電暈。高壓為4-10kV。可根據(jù)樣品的實際情況調(diào)整參數(shù),獲得優(yōu)良穩(wěn)定的處理效果。(B)電暈發(fā)生器噴槍:常壓低溫電暈發(fā)生器噴槍可分為射流直噴和旋轉(zhuǎn)直噴兩種。區(qū)別在于處理區(qū)域不同,可根據(jù)用戶要求配套自動化生產(chǎn)線方案。

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接下來,我將與大家分享:根據(jù)反應(yīng)類型的不同,電暈清洗系統(tǒng)的清洗技術(shù)可分為兩種:電暈物理清洗,即利用活性粒子和高能射線轟擊分離污染物;電暈化學(xué)清洗,即活性粒子與雜質(zhì)分子的反應(yīng)使污染物揮發(fā)分離。(1)激發(fā)頻率對電暈的清洗類型有一定影響如超聲電暈(激發(fā)頻率,40kHz)的反應(yīng)多為物理反應(yīng);微波電暈(激發(fā)頻率2.45GHz)中的反應(yīng)大多是化學(xué)反應(yīng)。

紡織工業(yè)紡織行業(yè)使用電暈進(jìn)行各種非同一處理工藝的目的是對各種不同要求的紡織產(chǎn)品,如天然纖維,達(dá)到優(yōu)異的印染效果。電暈處理后,不僅印染效果顯著提高,而且纖維表面質(zhì)量提高,使用壽命延長。5,手表涂層腕表表盤將進(jìn)行涂層處理,以達(dá)到所需的色彩效果,提高耐磨壽命。在手表表盤進(jìn)行涂層之前,需要使用電暈清潔劑去除表盤表面原有的污染物,激活表面活性,使涂層附著更加牢固。

高分子材料的表面改性主要受以下三個參數(shù)的影響:1.射頻功率;2.改性時間,也叫電暈表面處理時間;3.氣體流量,即進(jìn)氣量。PDMS的鍵合效果不僅與表面改性方法有關(guān),還與表面改性后的鍵合時間、鍵合時間和鍵合壓力有關(guān)。對于不同的產(chǎn)品,產(chǎn)品的材質(zhì)、表面硬度、活性條件都有很大差異。因此,電暈在產(chǎn)品表面使用時,必須找到合適的工藝參數(shù)進(jìn)行處理。

密封圈是工業(yè)設(shè)備的關(guān)鍵部件,用于將機械設(shè)備的各個部件連接到機械零件上。采用優(yōu)質(zhì)石棉制成耐酸堿石棉,用于小型真空電暈火焰加工機。它由化學(xué)纖維、耐酸堿化學(xué)纖維、填料、添加劑等制成,耐磨、耐溫、密封性好,主要用于真空電暈火焰處理器真空泵殼體。電暈火焰處理器中使用的數(shù)據(jù)氣壓計是一個電子數(shù)字壓力電源開關(guān),可以實時顯示壓力數(shù)據(jù)和輸出壓力報警。瞬時壓力和設(shè)定低壓以數(shù)據(jù)形式呈現(xiàn),視覺效果強,可合理避免誤解。

電暈處理和火花處理有什么不同

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四、電暈清洗管帽管帽存放時間長了,電暈處理和火花處理有什么不同表面就老了,還可能被污染。清洗電暈去除污染后封蓋,可顯著提高封蓋合格率。陶瓷包裝通常采用金屬膏體印刷線作為粘接區(qū)和蓋板封合區(qū)在這些材料表面電鍍鎳之前,采用電暈清洗去除有機污染,提高鍍層質(zhì)量。

電暈常用頻率的差異及應(yīng)用隨著電暈科學(xué)基礎(chǔ)研究的需要和工業(yè)對可靠電暈處理系統(tǒng)日益增長的需求,電暈處理和火花處理有什么不同電暈源已由19世紀(jì)的氣體放電裝置逐漸演變?yōu)楝F(xiàn)代先進(jìn)的生產(chǎn)設(shè)備。利用直流、射頻和微波電場將氣體電離可用于制造電暈源。