在針板反應(yīng)器中，cob等離子體表面清洗設(shè)備CH4和CO2的轉(zhuǎn)化率、C2烴和CO的產(chǎn)率均優(yōu)于線(xiàn)性反應(yīng)器。在相同的實(shí)驗(yàn)條件下，針板反應(yīng)器中高能電子的密度和能量激活了反應(yīng)物分子，促進(jìn)了CH4和CO2的CH和CO鍵的斷裂，而CH4和CO2更高。相應(yīng)產(chǎn)品的收率提高。此外，研究等離子體-等離子體-催化劑相互作用以從 CH4 和 CO2 生成 C2 烴還應(yīng)考慮催化劑制備過(guò)程和催化劑放置的反應(yīng)器結(jié)構(gòu)要求。

表 4-1 反應(yīng)器結(jié)構(gòu)的影響（單位：%） 反應(yīng)器轉(zhuǎn)化率選擇性收率 CH4CO2C2C2CO 針板反應(yīng)器 29.823.639.611.834.4 線(xiàn)簡(jiǎn)單反應(yīng)器 21.318.741.88.926.7 注：反應(yīng)條件為 CH/CO2 = 1:1 能量。密度=1000kJ/mol。針板反應(yīng)器電極間的放電距離對(duì)CH4反應(yīng)的CO2氧化影響很大。

隨著針板反應(yīng)器上下放電電極之間的距離從8 mm增加到16 mm，cob等離子清潔機(jī)甲烷轉(zhuǎn)化峰形略有變化。 22.0%。當(dāng)排放間隔從10mm變?yōu)?6mm時(shí)，幾乎沒(méi)有CO2轉(zhuǎn)化的影響，只有排放間隔為8mm時(shí)二氧化碳轉(zhuǎn)化率才高，為21.8%。 C2 烴的產(chǎn)率隨著排放距離的增加而略有變化。在 10 mm 的放電距離下，C2 烴的收率很高，為 12.7%。

當(dāng)放電距離為 8 mm 時(shí)，cob等離子清潔機(jī)CO 產(chǎn)率較低（放電間隔從 8 mm 變?yōu)?16 mm 時(shí)，CO 產(chǎn)率約為 36%。在大氣脈沖電暈等離子體中，針板改變放電間隔的效果反應(yīng)器上下電極之間的放電距離主要有兩個(gè)方面：一是如果反應(yīng)氣體密度恒定，則電極間的電場(chǎng)隨著放電距離d的增加而增加，強(qiáng)度增加和減少，麥克斯韋等離子體中高能電子的分布曲線(xiàn)從高能區(qū)向低能區(qū)移動(dòng)，導(dǎo)致高能電子的平均能量降低，而d的值隨著降低。

cob等離子清潔機(jī)

對(duì)于 CO2 轉(zhuǎn)化：等離子體中高能電子數(shù)量的增加（d 值降低）促進(jìn) CO2 的分解反應(yīng)（CO2 + e * → CO + 0 + e ΔE = 5.45 eV. , CH4 + e * → CH3 + H + eΔE = 4.5eV)，發(fā)射間隔為8 mm，CO2轉(zhuǎn)化率僅提高到21.8%。同時(shí)，在較小的發(fā)射間隔下，C2 烴產(chǎn)物更快地離開(kāi)等離子體等離子區(qū)以避免進(jìn)一步的降解反應(yīng)。

因此，隨著d值的減小，C2烴產(chǎn)物的選擇性增加。排放間隔為 10 mm 時(shí)，C2 烴的產(chǎn)率達(dá)到峰值 (12.7%)。一氧化碳產(chǎn)率。這與 CH4 轉(zhuǎn)化率、CO2 轉(zhuǎn)化率和 C2 烴選擇性有關(guān)。只有通過(guò)選擇適當(dāng)?shù)呐欧砰g隔才能獲得更高的 C2 烴產(chǎn)量。等離子體 等離子體和 10CeO2-Y-Al2O3 聯(lián)合作用下能量密度對(duì)乙烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響 10CeO2 / Y-Al2O3 聯(lián)合作用下能量密度對(duì)乙烷轉(zhuǎn)化反應(yīng)的影響。

電源和匹配器問(wèn)題在問(wèn)題發(fā)生時(shí)也會(huì)在屏幕上顯示與報(bào)警窗口相關(guān)的提示信息，但有時(shí)會(huì)因參數(shù)設(shè)置等原因觸發(fā)不正確的報(bào)警信息，具體情況需要具體分析。如果電源或電源有問(wèn)題，首先檢查參數(shù)設(shè)置是否正確，然后檢查設(shè)置的電源輸出的接線(xiàn)和電壓信號(hào)是否正確有效，匹配之間的串行通訊是否正確.請(qǐng)檢查。設(shè)備及電源正常，需手動(dòng)調(diào)試。如果調(diào)試匹配器的參數(shù)，當(dāng)按下增減按鈕時(shí)，相關(guān)參數(shù)沒(méi)有明顯變化，則說(shuō)明匹配器故障。

由于高頻電源的輸出阻抗相同，負(fù)載阻抗匹配，等離子清洗裝置可以穩(wěn)定放電，提高工作效率。等離子清洗機(jī)的阻抗匹配盒出現(xiàn)問(wèn)題，直接影響設(shè)備的放電，容易導(dǎo)致設(shè)備不放電或不穩(wěn)定。等離子發(fā)生器傳輸能量時(shí)，如果反應(yīng)室和電極的阻抗不等于傳輸線(xiàn)的特性阻抗，則在傳輸過(guò)程中很可能發(fā)生反射，部分能量損失如下：加熱，但不是所有的能量。它被負(fù)載吸收。正是如此，等離子表面處理的效果大打折扣。

cob等離子體表面清洗設(shè)備

等離子清洗機(jī)阻抗匹配如何工作？你有哪些知識(shí)點(diǎn)？阻抗匹配在真空等離子清潔設(shè)備中很常見(jiàn)。裝置的反應(yīng)室、電極和等離子體發(fā)生器統(tǒng)稱(chēng)為負(fù)載。在有負(fù)載的直流電路中，cob等離子體表面清洗設(shè)備外電路的負(fù)載電阻等于內(nèi)電阻。電源，這是負(fù)載匹配的必要條件。直流電路的 Z 高功率定理也存在于相應(yīng)的交流電路中。下圖顯示了負(fù)載阻抗為 z 的高頻環(huán)路。為滿(mǎn)足負(fù)載的最大功率輸出、負(fù)載阻抗、高頻發(fā)生器的輸出阻抗，假設(shè)電源的內(nèi)部阻抗，即輸出阻抗為(a+jb)Ω。