清洗和蝕刻:去除工件表面的看不見的有機(jī)污染物、表面吸附層和薄膜層。超精密清洗工藝可以解決工件表面的粘附問題。例如在清洗時(shí),電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比工作氣體往往是氧氣,它通過加速電子與氧離子和自由基碰撞后被高度氧化。工作表面上的污垢,如油脂助焊劑、感光膜、脫模劑、沖頭油等很快被氧化成二氧化碳和水,用真空泵抽出,目的是清潔表面,提高潤濕性和附著力。冷等離子處理只涉及材料的表面,不影響材料的大部分性能。

二氧化硅清洗機(jī)

甲烷轉(zhuǎn)化率從 43.4% 下降到 24%,二氧化硅清洗機(jī)但 C2 烴的收率從 13.4% 提高到 17.6%。 LA2O3 改善二氧化碳。轉(zhuǎn)化率,但 CO 產(chǎn)量降低:當(dāng) LA2O3 負(fù)載量從 2% 變化到 12% 時(shí),CH4 轉(zhuǎn)化率和 C2 烴產(chǎn)率峰形略有變化,但對(duì) CO2 轉(zhuǎn)化率和 CO 產(chǎn)率影響不大。

二氧化碳轉(zhuǎn)化順序如下: NI0 / Y-AL2O3> TIO2 / Y-AL2O3> CO2O3 / Y-AL2O3> NA2WO4 /Y-AL2O3 & ASYMP; FE2O3 / Y-AL2O3> RE2O7 / Y-AL2O3 & ASYMP; CR2O3 / Y-AL2O3> MN2O3 / Y-AL2O3 & ASYMP; MOO3 / Y-AL2O3> ZNO / Y-AL2O3。

清洗等離子處理設(shè)備的目的是去除靜電感應(yīng)、灰塵和表面油性殘留物等污染物。等離子清洗機(jī)的精細(xì)加工可以完全清潔材料表面,二氧化硅清洗機(jī)即使是小顆粒?;蛘咚环胖迷诒砻娴目紫督Y(jié)構(gòu)中。它被沖走了。等離子清洗機(jī)、精細(xì)清洗、高效活化等離子清洗機(jī)不僅可用于產(chǎn)品清洗,還可用于蝕刻工藝、灰化、表面活性刺激等一般工業(yè)生產(chǎn)行業(yè)。 等離子清洗機(jī)通常用于以下應(yīng)用: 1。

二氧化硅清洗機(jī)

二氧化硅清洗機(jī)

在真空室內(nèi),高頻電源在恒壓下產(chǎn)生高能混沌等離子體,等距子體撞擊待清潔物體表面。達(dá)到清潔的目的。在長期致力于等離子應(yīng)用技術(shù)研究和設(shè)備開發(fā)的基礎(chǔ)上,我們充分借鑒歐美先進(jìn)技術(shù),通過與日本及海外知名研究機(jī)構(gòu)的技術(shù)合作,開發(fā)出電容耦合。放電、電感耦合放電、遠(yuǎn)程等離子放電等多種放電類型產(chǎn)品。特有的加工腔形狀和電極結(jié)構(gòu),可滿足薄膜、織物、零件、粉末、顆粒等各種形狀和材料的表面處理要求。

實(shí)際的電容器總是具有在低頻時(shí)不明顯的寄生電容,但在高頻時(shí)它會(huì)超過電容本身。從磁場(chǎng)能量變化的角度很容易理解,當(dāng)電流變化時(shí),磁場(chǎng)能量也會(huì)發(fā)生變化,但能量跳躍是不可能的,體現(xiàn)了電感的特性。電容電流的變化可以在一定程度上延遲,增加電感可以提高電容的充/放電阻抗,延長整個(gè)電源的響應(yīng)時(shí)間。固有頻率點(diǎn)是區(qū)分諧振與電容或電感兼容性的分界點(diǎn)。

等離子清洗機(jī)的處理在微觀水平上提高了材料表面的活性,可以大大提高涂層效果。實(shí)驗(yàn)表明,用等離子表面處理機(jī)對(duì)不同的材料進(jìn)行處理需要選擇不同的工藝參數(shù),才能達(dá)到更好的活化效果。。等離子技術(shù)在汽車工業(yè)中的應(yīng)用 1.隨著汽車工業(yè)的發(fā)展,對(duì)點(diǎn)火線圈各方面的性能要求也越來越高。點(diǎn)火線圈可以增加輸出。最明顯的效果是在低速和中速行駛時(shí)增加扭矩。消除積碳,更好地保護(hù)發(fā)動(dòng)機(jī),延長發(fā)動(dòng)機(jī)壽命。減少或消除發(fā)動(dòng)機(jī)共振。

儀表板和控制板的涂層效果很差,不耐磨,可以用化學(xué)方法處理,使油漆容易脫落,但不僅改變了涂層的效果,而且儀表板等基材。它會(huì)改變性能并略微降低強(qiáng)度。今天,許多制造商使用等離子技術(shù)來處理這些基板。等離子沖擊提高了材料表面的微觀活性,可以大大提高涂層效果。實(shí)驗(yàn)表明,需要選擇不同的工藝參數(shù),用等離子清洗機(jī)處理不同的材料,才能達(dá)到更好的活化效果。

電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比

電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比

實(shí)驗(yàn)表明,電感耦合等離子體刻蝕硅和二氧化硅比等離子處理過的塑料件在硬盤中的連續(xù)穩(wěn)定執(zhí)行時(shí)間顯著增加,可靠性和抗碰撞性能顯著提高。圖為某公司硬盤塑料部件在等離子清洗機(jī)中加工的照片。 & EMSP; & EMSP; 2 耳機(jī)接收器 & EMSP; & EMSP; 耳機(jī)線圈在信號(hào)電流的驅(qū)動(dòng)下驅(qū)動(dòng)振膜連續(xù)振動(dòng)。