通過(guò)配置刻蝕組件，二氧化硅清潔等離子清洗機(jī)可以實(shí)現(xiàn)刻蝕功能，性價(jià)比高，操作簡(jiǎn)單，從而實(shí)現(xiàn)多功能。半導(dǎo)體通過(guò)等離子體蝕刻機(jī)過(guò)程將模式復(fù)制到多晶硅和其他基質(zhì)膜的結(jié)構(gòu),以形成一個(gè)晶體管門電路,同時(shí)與鋁或銅組件實(shí)現(xiàn)互連,或與二氧化硅阻止互連路徑。蝕刻的作用是將印刷的圖案以極高的精度轉(zhuǎn)移到基片上，因此蝕刻過(guò)程必須有選擇性地去除不同的薄膜，基片蝕刻要求有很高的選擇性。否則，不同導(dǎo)電金屬層之間可能發(fā)生短路。

首先，二氧化硅清潔等離子體表面清洗機(jī)產(chǎn)生的等離子體含有電子、離子和活性自由基。這些顆粒更容易與材料表面的有機(jī)污染物發(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生易揮發(fā)的無(wú)害氣體，如二氧化碳、水蒸氣等。整個(gè)反應(yīng)過(guò)程時(shí)間短、效率高、處理效果好。其次，手機(jī)屏幕在涂層或噴涂后經(jīng)過(guò)等離子體處理，等離子體中的活性成分會(huì)迅速與材料和噴涂材料形成化學(xué)鍵，這種鍵能大大提高分子鍵合的強(qiáng)度，使膜不易松動(dòng)。。

典型的等離子體物理清洗工藝是氬等離子體清洗。氬本身是惰性氣體，二氧化硅清潔不與表面發(fā)生反應(yīng)，而是通過(guò)離子轟擊來(lái)清除表面。典型的等離子體化學(xué)清洗工藝是氧等離子體清洗。等離子體產(chǎn)生的氧自由基反應(yīng)性很強(qiáng)，很容易與碳?xì)浠衔锓磻?yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)性物質(zhì)，2.2激發(fā)頻率分類等離子體密度與激發(fā)頻率的關(guān)系如下:Nc = 1.2425 × 108 v2其中Nc為等離子體密度(CM-3)， V為激發(fā)頻率(Hz)。

等離子體和十種催化劑對(duì)甲烷和二氧化碳的轉(zhuǎn)化有不同的影響:過(guò)渡金屬氧化物是工業(yè)催化劑中最重要的催化劑之一。過(guò)渡金屬氧化物的多相催化反應(yīng)通常是通過(guò)催化劑的酸堿反應(yīng)或氧化還原反應(yīng)來(lái)進(jìn)行的。甲烷(OCM)在普通催化和等離子體催化下的氧化偶聯(lián)結(jié)果表明:大多數(shù)過(guò)渡金屬氧化物催化劑具有一定的催化活性。結(jié)合以往等離子體催化甲烷脫氫的研究經(jīng)驗(yàn)，二氧化硅清潔選擇Mn、Fe、Co、Ni和W等過(guò)渡金屬，制備了負(fù)載型金屬氧化物催化劑。

二氧化硅清潔設(shè)備：

在氧自由基、激發(fā)態(tài)氧分子、電子和紫外線的共同作用下，油分子最終被氧化為水分子和二氧化碳分子，并從物體表面去除。由此可見(jiàn)，等離子體去除油漬的過(guò)程是一個(gè)有機(jī)大分子逐漸降解的過(guò)程，最終形成水、二氧化碳等小分子，這些小分子以氣態(tài)形式排除。等離子體清洗的另一個(gè)特點(diǎn)是，清洗后的物體已徹底干燥。

二氧化碳轉(zhuǎn)化順序?yàn)?Ni0/Y-Al2O3>TiO2/Y-Al2O3>Co2O3/Y-Al2O3>Na2WO4 / Y-Al2O3 Fe2O3 / Y-Al2O3> Re2O7 / Y-Al2O3 Cr2O3 / Y-Al2O3> Mn2O3 / Y-Al2O3 MoO3 / Y-Al2O3>氧化鋅/ Y -氧化鋁。

工件表面上的污染物,如油脂、通量,膠卷,脫模劑,沖壓油,等等,很快就會(huì)被氧化成二氧化碳和水,并將由真空泵抽離,從而達(dá)到清洗的目的和改善表面滲透和附著力。低溫等離子體處理只涉及材料的表面，不影響材料的性能。由于等離子體清洗是在高真空條件下進(jìn)行的，等離子體中各種活性離子自由路徑長(zhǎng)，穿透性和滲透性強(qiáng)，可以用細(xì)管和盲孔等復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行處理。

然后用真空泵除去氣態(tài)污泥。2)氧:化學(xué)過(guò)程等離子體與樣品表面復(fù)合反應(yīng)。例如，有機(jī)污染物可以用氧等離子體有效地去除，氧等離子體與污染物反應(yīng)產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水。一般來(lái)說(shuō)，化學(xué)反應(yīng)對(duì)有機(jī)污染物的去除效果更好。3)氫氣:可以用氫氣去除金屬氧化物。它經(jīng)常與氬氣混合以達(dá)到脫除率。人們擔(dān)心氫的可燃性，因?yàn)闅涞氖褂昧糠浅Ｐ　Ｒ粋€(gè)更大的擔(dān)憂是氫的儲(chǔ)存。我們可以用氫氣發(fā)生器從水中產(chǎn)生氫氣。然后消除潛在的危害。

二氧化硅清潔設(shè)備：

因?yàn)槌暡ㄇ逑礄C(jī)是一種清洗表面可見(jiàn)材料的機(jī)械設(shè)備。等離子清洗機(jī)是清潔表面有機(jī)物，二氧化硅清潔使產(chǎn)品改性，提高不良率，做表面活化等功能。等離子表面清洗機(jī)的機(jī)理不同于超聲波技術(shù)。當(dāng)艙室接近真空時(shí)，打開射頻電源。在這一點(diǎn)上，氣體分子電離產(chǎn)生等離子體，伴隨光放電。等離子體在電場(chǎng)作用下加速，在電場(chǎng)作用下高速運(yùn)動(dòng)，物體表面發(fā)生物理碰撞，等離子體的能量足以去除各種污染物。同時(shí)，氧離子能將有機(jī)污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣。