等離子體積硅化合物,使用SiH4+N2O(或Si(OC2H4)+O2)制造SiOxHy??諝鈮毫?~5托(1托≈133帕),功率為13.5MHz。SiH4+SiH3+N2用于氮化硅沉,氣溫為300℃,沉積速率為180埃/分。非晶碳化硅膜由硅烷加含碳的共反應(yīng)劑得SixC1+x:H,xhttps://www.jinlaiplasma.com/asse/jinlai/chanpin/denglizibiaomianchuli20.png是Si/Si+C比例。硬度超過2500千克/毫米。
利用等離子體在多孔基片上沉積一層薄聚合膜,制成選擇性滲透膜和反滲透膜,可用于分離混合物中的氣體,分離離子和水。還可結(jié)合超薄膜層,以適應(yīng)不同的選擇性,如分子尺寸、可溶性、離子親合性、擴散性等。采用常規(guī)的方法,在碳酸鹽-硅共聚物基底上沉積0.5毫米薄膜,其氫與甲烷的滲透比為0.85,甲烷的滲透率比氫的高。當(dāng)?shù)入x子體在基片上沉積苯甲氰單體時,其比值增加到33,分離效率大大提高。反滲透膜可用于海水的脫鹽處理,當(dāng)水流量低于某一閾值時,排鹽效果較好。其聚合膜具有較好的抗?jié)B透性能,如烯烴族、雜芳香族和芳香胺等。
采用等離子沉積膜技術(shù)制備的薄膜可用于光學(xué)元件,如消反射膜、防潮膜、抗磨損膜等。利用等離子體可在集成光學(xué)中根據(jù)要求的折射率沉積上穩(wěn)定的薄膜,使其與光路中的各個元件連接。這類薄膜每厘米的光損失為0.04分貝。