主權(quán)利要求:1.一種帶有超高頻電源的小型等離子發(fā)生器，涂層附著力拉拔試驗(yàn)裝置包括處理管（2），處理管（2）內(nèi)設(shè)有對(duì)空氣進(jìn)行凈化的低溫等離子凈化裝置，低溫等離子凈化裝置包括呈方形設(shè)置的框架(4)，所述框架(4)內(nèi)互相平行設(shè)有若干電極(42)，所述電極(42)與超高頻電源相連，所述電極(42)外套設(shè)有石英管(421)，所述電極(42)包括正電極以及負(fù)電極，其特征在于：所述正電極與負(fù)電極間隔設(shè)置，負(fù)電極設(shè)置在相鄰兩正電極連線的側(cè)面，所述正電極固定在框架(4)的頂部，所述負(fù)電極固定在框架(4)的底部，所述框架(4)上沿石英管(421)的長(zhǎng)度方向設(shè)有抵接桿(6)以及驅(qū)動(dòng)抵接桿(6)始終與石英管(421)的端面抵接的第一彈性件，所述抵接桿(6)上設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn)(61)，所述框架(4)上與動(dòng)觸點(diǎn)(61)對(duì)應(yīng)設(shè)有靜觸點(diǎn)(43)，所述動(dòng)觸點(diǎn)(61)以及靜觸點(diǎn)(43)連接有報(bào)警電路。

整個(gè)清洗過(guò)程可以在幾分鐘內(nèi)完成,所以它有高收益的特點(diǎn),易于使用的數(shù)控技術(shù),自動(dòng)化程度高,高精度控制裝置,高精度時(shí)間控制;正確的等離子體清洗不會(huì)產(chǎn)生表面損傷層,表面質(zhì)量得到保證。由于是在真空中進(jìn)行，涂層附著力拉拔試驗(yàn)裝置不污染環(huán)境，保證清洗表面不受二次污染。等離子體工藝是一種干法工藝，與濕法工藝相比，它有許多優(yōu)點(diǎn)，這是由等離子體本身的特性決定的。

在大氣壓脈沖等離子體表面處理裝置的電暈條件下，涂層附著力拉拔試驗(yàn)裝置C2H6的轉(zhuǎn)化率和C2H2的收率隨著增加而增加。能量密度的增加略微增加了C2H4的產(chǎn)率，但CH4的產(chǎn)率并沒(méi)有隨著等離子體能量密度的增加而變化很大。當(dāng)?shù)入x子體能量密度為860KJ/MOL時(shí)，C2H6的轉(zhuǎn)化率為23.2%，C2H4和C2H2的總收率為11.6%。

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涂層附著力拉拔試驗(yàn)

非平衡等離子體中電子的能量分布與重粒子不同，兩者處于不平衡狀態(tài)，因此含電子氣體的溫度為中性粒子和含離子氣體的溫度。通過(guò)這種方式，可以誘導(dǎo)高能電子通過(guò)碰撞激發(fā)氣體分子，或者使氣體分子解離和電離。上述過(guò)程產(chǎn)生的自由基可以分解污染物分子。等離子體的化學(xué)作用可以實(shí)現(xiàn)物質(zhì)的化學(xué)轉(zhuǎn)化。與僅依靠等離子體的熱效應(yīng)的分子分解相比，等離子體的化學(xué)作用被用來(lái)實(shí)現(xiàn)更有效的物質(zhì)轉(zhuǎn)化。

在確定等離子刻蝕機(jī)的放電空間時(shí)，當(dāng)放電電流均勻時(shí)，在放電電流峰值附近可以拍攝到10ns的放電圖像，發(fā)現(xiàn)放電中沒(méi)有明暗放電燈絲，說(shuō)明放電在空間上是均勻的，所以這種在大氣壓氦氣中容易得到的放電是均勻放電；同時(shí)，在瞬時(shí)陰極附近可以看到高亮度的發(fā)光層，這是輝光放電的典型特征。由此可以斷定，大氣壓氦放電屬于輝光放電。

氣體被電離，電離氣體中含有大量的電子、離子和一些中性粒子（原子和分子），其間電子和離子的電荷大致相同，宏觀上看是電中性的。或統(tǒng)一的感覺(jué)。以水為例。當(dāng)溫度低于0°C時(shí)，水看起來(lái)就像是“冰”的固體。當(dāng)溫度在0°C和 °C之間時(shí)，水是液體，或“水”。 ”；當(dāng)溫度超過(guò) ℃時(shí)，水變成氣態(tài)，或稱“水蒸氣”。

由于物體表面的撞擊，吸附在物體表面的氣體分子會(huì)被分解和吸附，大量的電子碰撞有利于化學(xué)反應(yīng)。因?yàn)殡娮拥馁|(zhì)量很小，所以它們比離子跑得快。在低溫等離子體過(guò)程中，電子比離子早到達(dá)物體表面，表面帶負(fù)電荷，這有利于引發(fā)進(jìn)一步的反應(yīng)。。等離子體作為物質(zhì)(除固體、液體和氣體外)的第四種狀態(tài)，是由氣體部分或完全電離而產(chǎn)生的非凝聚系統(tǒng)，一般含有自由電子、離子、自由基、中性粒子等。

涂層附著力拉拔試驗(yàn)裝置