等離子孔清洗:等離子孔清洗是印刷電路板的主要應(yīng)用。氧氣和四氟化碳的混合物通常用作氣源。決定控制氣體的比例以獲得更好的治療效果。血漿活性的因素。等離子表面活化:PTFE(聚四氟乙烯)材料主要用于微波基板,PTFE刻蝕難以實(shí)現(xiàn)普通FR-4多層基板的孔金屬化工藝。主要原因是化學(xué)鍍銅前的活化過程?,F(xiàn)有的濕法處理方法是利用萘鈉絡(luò)合物處理液侵蝕孔隙中的PTFE表面原子,達(dá)到潤濕孔壁的目的。難點(diǎn)在于處理液合成難度大、毒性大、保質(zhì)期短。
如果排放壓力大于 10 Pa 或小于 50 Pa,PTFE刻蝕壓力不會干擾接觸角。但是,如果氣壓超過 50 Pa,接觸角反而會增加。認(rèn)為這是因?yàn)楫?dāng)氣壓高時,蒸氣不能完全電離,阻礙了PTFE表面的改性。 ..等離子注入材料具有新的表面特性,但等離子等離子表面的作用是長期變化的,隨著放置時間的增加,表面接觸角逐漸增大。等離子 等離子處理后不接枝,老化潤濕性降低的原因有很多。
從表 1 可以看出,PTFE刻蝕設(shè)備混合桃小粉作為填充材料可以顯著提高純 PTFE 樹脂介質(zhì)體系的耐熱性。更值得注意的是,上述三家公司的三個品牌微波基板材料的熱膨脹系數(shù)分別下降到了24.20.23 pn/C。在基板制造方面,用于集成網(wǎng)絡(luò)多層膜的孔金屬化制造電路板應(yīng)側(cè)重于孔壁活化的質(zhì)量控制。等離子處理設(shè)備將再次用于此目的。 2.3.1 觸摸屏等行業(yè)內(nèi)層四氟乙烯介質(zhì)基板表面浮渣去除、表面清潔、表面活化改進(jìn)等方面存在的問題。
這提高了產(chǎn)品質(zhì)量和認(rèn)證率,PTFE刻蝕機(jī)器讓每個人都很難。沉積在其表面的材料。要做到這一點(diǎn),表面需要得到業(yè)內(nèi)客戶的廣泛認(rèn)可。活化處理,提高附著力。等離子加工技術(shù)是首選的應(yīng)用技術(shù)之一,屬于干法工藝,因此對環(huán)境的影響更小,加工效率更高,表面性能顯著提高。等離子加工設(shè)備起源于PTFE介質(zhì)基板PTH的高端制造需求,20多年前就已多層化。最初它是在玻璃容器中制造的,但也有人嘗試過。如您所知,美國行軍設(shè)備就在我們面前。
PTFE刻蝕設(shè)備
其中,化學(xué)鍍銅前的PTFE活化(化學(xué))預(yù)處理是一個非常困難和重要的步驟。 PTFE材料化學(xué)鍍銅前的活化(化學(xué))處理方法有很多,但總的來說有兩個目的:既能保證產(chǎn)品質(zhì)量,又適合大批量生產(chǎn)。 a) 化學(xué)處理法:金屬鈉與萘在四氫呋喃或乙二醇二甲醚等非水溶劑溶液中反應(yīng),生成萘-鈉絡(luò)合物。萘鈉處理的溶液會腐蝕孔隙中 PTFE 的表面原子。達(dá)到潤濕孔壁的目的。
這是一種效果(結(jié)果)好、質(zhì)量穩(wěn)定的典型方法,在今天得到廣泛應(yīng)用。 b) 等離子加工法:該工藝操作簡單,加工質(zhì)量穩(wěn)定,可靠,適合大批量生產(chǎn),采用等離子干法工藝制造。但化學(xué)處理法制備的萘鈉處理液合成難度大、毒性大、保質(zhì)期短。因此,目前PTFE表面的活化(化學(xué))處理主要采用等離子處理方法,操作簡單,大大減少了廢水的處理量。 (1)聚四氟乙烯材料的活化(化學(xué))處理 對聚四氟乙烯材料進(jìn)行金屬化孔的工程師有以下經(jīng)驗(yàn)。
使用普通 FR-4 多層印刷電路板孔金屬化無法獲得孔金屬化的制造方法成功的鐵氟龍印刷電路板。困難在于在化學(xué)銅沉積之前對 PTFE 進(jìn)行活化(化學(xué))預(yù)處理。這也是重要的一步。有多種方法可用于在化學(xué)沉銅前對 PTFE 材料進(jìn)行活化(化學(xué))處理,但總的來說,主要有兩種方法,因?yàn)樗鼈兗饶鼙WC產(chǎn)品質(zhì)量,又適合批量生產(chǎn)。 ) 化學(xué)處理萘鈉和萘在非水溶劑如四氫呋喃或乙二醇二甲醚中反應(yīng)生成萘鈉絡(luò)合物。
萘鈉處理液可以蝕刻孔隙中的聚四氟乙烯表面原子,達(dá)到潤濕孔壁的目的。這是一種經(jīng)典而成功的方法,效果(結(jié)果)優(yōu)良,質(zhì)量穩(wěn)定,現(xiàn)已被廣泛使用。 (B)等離子加工方法該加工方法是一種干法,操作簡單,穩(wěn)定,加工質(zhì)量可靠,適合大批量生產(chǎn)?;瘜W(xué)處理的萘鈉溶液合成難度大,毒性大,保質(zhì)期短。因此,現(xiàn)在大部分的 PTFE 表面活化(化學(xué))處理都是通過等離子處理進(jìn)行的,這樣操作方便,廢水處理明顯(明顯)更少。
PTFE刻蝕機(jī)器
一般高壓電離的中性等離子體具有高活性,PTFE刻蝕設(shè)備不斷與材料表面的原子發(fā)生反應(yīng),因此表面材料不斷被氣態(tài)材料激發(fā)而揮發(fā),達(dá)到清洗的目的。它是一種清潔、環(huán)保、高效(高效)的清潔方法,在印刷電路板制造過程中非常實(shí)用。。PTFE材料的等離子蝕刻機(jī)加工 PTFE材料的等離子蝕刻機(jī)加工: 對PTFE材料的孔進(jìn)行金屬化處理的工程師有以下經(jīng)驗(yàn)。 FR-4電路板常用的分層印刷孔如何進(jìn)行金屬化,無法獲得孔金屬化成功的PTFE印刷電路板。
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