在活塞位置 I 和 II 處，法蘭噴鋅電附著力比鋼板差吸氣法蘭中的容積將會(huì)增大。將活塞繼續(xù)旋轉(zhuǎn)到位置 lll 時(shí)，部分容積將被從吸力側(cè)密封。在位置 IV 處，將該容積打開(kāi)至出口側(cè)，現(xiàn)有氣體將會(huì)在預(yù)真空壓力（高于吸入壓力）下涌入。涌入的氣體將會(huì)壓縮從吸入側(cè)輸送的氣體體積?；钊^續(xù)旋轉(zhuǎn)時(shí)，將會(huì)通過(guò)出口法蘭排出壓縮氣體。每完整旋轉(zhuǎn)一圈，針對(duì)每?jī)蓚€(gè)活塞重復(fù)執(zhí)行此過(guò)程兩次。通過(guò)輸送室內(nèi)的無(wú)接觸式運(yùn)行，可以以較高轉(zhuǎn)速運(yùn)行搖桿式活塞泵。

(D)接觸時(shí)間：待清洗材料在等離子體中的接觸時(shí)間對(duì)材料與等離子體的表面清洗效果影響很大。工作效率。接觸時(shí)間越長(zhǎng)，附著力比較高的漆清洗效果越好，但工作效率越低。此外，長(zhǎng)時(shí)間清潔會(huì)損壞材料表面。 (E)滲透率：與常壓等離子清洗工藝相比，清洗大型物體時(shí)會(huì)出現(xiàn)連續(xù)滲透的問(wèn)題。因此，被清洗物與電極的相對(duì)運(yùn)動(dòng)越慢，清洗效果就越高，但如果太慢，工作效率就會(huì)變差，表面也會(huì)受到損傷。

經(jīng)過(guò)等離子處理的元器件表面具有更高的表面能，附著力比較高的漆能夠?qū)崿F(xiàn)其與塑封料的結(jié)合，減少塑封工藝技術(shù)中分層、針孔等現(xiàn)象的產(chǎn)生。2). 氬氣可形成氬離子，并可以利用材料表面生成的自偏壓對(duì)材料進(jìn)行濺射，消除表面吸附的外來(lái)分子并能夠有效去除表面金屬氧化物 。在微電子打線前的進(jìn)行等離子處理是一種比較典型的工藝。如經(jīng)過(guò)等離子體處理后的焊盤(pán)表面，清除了有機(jī)污染物和氧化物，能夠有效提高打線和焊線時(shí)的可靠性，提高良率。。

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最重要的是，可以在任何時(shí)間進(jìn)行第二次等離子體處理而不會(huì)使待處理的產(chǎn)品降解。這相對(duì)于使用可能損壞被處理材料的刺激性化學(xué)品的許多處理方法而言，優(yōu)勢(shì)十分明顯。此外，真空等離子是當(dāng)今最環(huán)保的深層清潔技術(shù)。沒(méi)有化學(xué)廢棄物，對(duì)員工或設(shè)施沒(méi)有危險(xiǎn)，也沒(méi)有化學(xué)品購(gòu)買(mǎi)或儲(chǔ)存，是一種簡(jiǎn)單高效并且綠色環(huán)保的處理方法。 等離子體活化最常用于電子器件的制造，特別是電子傳感器和連接器。

在刻蝕和堆積進(jìn)程中，資料表面與等離子體中原始的或新生產(chǎn)的組分產(chǎn)生反響，這意味著表面條件，如污染物、阻聚劑、阻檔層、氣體吸附等十分重要，會(huì)對(duì)進(jìn)程動(dòng)力及堆積的薄膜特性產(chǎn)生影響。 分子在等離子體中解離后變成高活性組分，然后這些活性組分再與有機(jī)化合物產(chǎn)生反響。氫原子既能夠連接到雙鍵上，也能夠從其他分子中抽離原子。在氧等離子體中，電離和解離能構(gòu)成多種組分。別的，還能夠構(gòu)成如O2（1△g）等亞穩(wěn)態(tài)的組分。

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