曲線擬合結(jié)果表明，cobplasma刻蝕機(jī)AR等離子體處理樣品的CS高能端峰減少，低能端峰增加，整個(gè)CLS峰的能譜變寬，處理后產(chǎn)生新的基團(tuán)。 .這些可能的基團(tuán)主要包括CO、C-OH、CO、O-CO、CF-O等含氧基團(tuán)。 AR等離子體處理后F2311表面的含氧基團(tuán)顯著增加。 AR等離子體處理也可以引入含氮基團(tuán)。由于 AR 等離子體處理，背景真空中還含有少量的氧氣和氮?dú)狻?/p>

該反應(yīng)產(chǎn)生新的官能團(tuán)，cobplasma刻蝕機(jī)例如羥基 (-OH)、氰基 (-CN)、羰基 (-C = O)、羧基 (-COOH) 或氨基 (-NH3)。 .很快。而這些化學(xué)基團(tuán)是提高附著力的關(guān)鍵。這些官能團(tuán)在聚合物表面和沉積在這些表面上的其他材料之間提供更好的潤(rùn)濕性和改進(jìn)的結(jié)合，其中羰基在鋁層的粘附中起重要作用。

低溫等離子凈化器是利用等離子以每秒3～5000萬次的速度反復(fù)撞擊惡臭氣體分子，cobplasma刻蝕機(jī)使廢氣中的各種成分失活、電離、分解，在一系列過程中產(chǎn)生復(fù)合物。通過氧化、多步凈化等化學(xué)反應(yīng)，將有害物質(zhì)轉(zhuǎn)化為潔凈空氣，自然釋放。使用高壓通過凈化器的苯、甲苯、二甲苯等有機(jī)廢氣分子，在大量平均能量約為5EV的電子的作用下，轉(zhuǎn)化為各種活性粒子，與凈化器中的O2結(jié)合生成生活空氣。增加。 H2O、CO2 等低分子量無害物質(zhì)可以凈化廢氣。

長(zhǎng)期研究表明，cobplasma表面處理機(jī)器當(dāng)一種化學(xué)物質(zhì)吸收能量（熱能、光子能、電離）時(shí)，其化學(xué)成分會(huì)變得更加活躍，甚至?xí)屏?。如果吸收的能量大于化學(xué)結(jié)合能，則化學(xué)鍵可能會(huì)斷裂。帶有能量的自由原子或基團(tuán)，一方面分解空氣中的氧氣，然后結(jié)合形成臭氧，另一方面，污染物的化學(xué)鍵斷裂，形成自由原子或基團(tuán)；在反應(yīng)過程中，廢氣最終被分解氧化成簡(jiǎn)單而穩(wěn)定的化合物，如 CO2、H2O 和 N2。

cobplasma刻蝕機(jī)

氧等離子體的化學(xué)反應(yīng)可以將非揮發(fā)性有機(jī)物轉(zhuǎn)化為揮發(fā)性CO2和水蒸氣，去除污染物并清潔表面。含氫等離子體可發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。反應(yīng)氣體電離產(chǎn)生的高活性反應(yīng)顆粒在特定條件下與待清潔表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。反應(yīng)產(chǎn)物是可以抽出的揮發(fā)性物質(zhì)。選擇要去除的物體，合適的反應(yīng)氣體成分很重要。 PE的特點(diǎn)是表面改性，清洗速度快，選擇性好，對(duì)有機(jī)污染更有用。缺點(diǎn)是氧化物的可能性。

高分子材料等材料表面的化學(xué)成分在含氧等離子體基團(tuán)的作用下發(fā)生氧化反應(yīng)，產(chǎn)生大量自由基，在自由基的幫助下進(jìn)行鏈?zhǔn)椒磻?yīng)。激進(jìn)的。不僅引入了羧基(COOH)、羰基(C=O)、羥基(OH)等許多含氧基團(tuán)，而且它們也是通過材料表面的氧的氧化分解而引入的。 , 也進(jìn)行蝕刻，親水性大大提高。 (2) 選擇非反應(yīng)性氣體的工藝原則 工藝氣體為AR、HE、H2等非反應(yīng)性氣體。

問題。為了解決上述問題，并滿足對(duì)特征尺寸縮小的嚴(yán)格要求，等離子框機(jī)可以采用類似于原子層蝕刻的方法。即，首先使用諸如H或He的等離子體蝕刻硅。氮化硅表面處理，表面膜的變化然后，使用諸如稀氫氟酸溶液的濕法蝕刻來選擇性地去除變性的表面膜層。由于 H 是輕離子，它不會(huì)像 He 那樣蝕刻氮化硅膜，并用于膜處理。電容耦合等離子刻蝕機(jī)可以通過調(diào)整偏置功率和注入時(shí)間來調(diào)整氮化硅表面膜層的氫濃度和注入深度。

無需溶劑預(yù)處理！所有塑料都可以使用！環(huán)保！它占用的工作空間非常?。〕杀揪拖窈娇蘸教?，使用等離子蝕刻機(jī)改變表面特性并賦予它們粘合特性以潤(rùn)濕塑料表面上的所有東西。兩種氣體同時(shí)，主體通過涂層進(jìn)入反應(yīng)室，氣體在等離子刻蝕機(jī)中聚合。此應(yīng)用程序比（激活）和清潔要求更嚴(yán)格。典型應(yīng)用是形成燃料容器的保護(hù)層、耐刮擦表面、PTFE 等材料的涂層、防水涂層等。涂層很薄，通常只有幾微米，此時(shí)表面親和力非常好。

cobplasma刻蝕機(jī)

與等離子蝕刻機(jī)相比，cobplasma刻蝕機(jī)水洗通常只是一種稀釋過程。與CO2清洗工藝相比，等離子刻蝕機(jī)不消耗其他材料。與噴砂清洗相比，等離子蝕刻功能不僅可以在線整合表面突起，還可以處理材料的完整表面結(jié)構(gòu)。不需要額外的空間。運(yùn)行成本低，環(huán)保環(huán)保預(yù)處理表面處理工藝如下：用于塑料、金屬材料、夾層玻璃、紡織、電子產(chǎn)品、新能源、航空等材料的表面活化。