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單晶圓清洗設備一般是指使用旋轉(zhuǎn)噴淋對單晶圓進行化學噴淋清洗的設備。與自動化清洗站相比，鍍層附著力最大能做到多少清洗效率較低，生產(chǎn)能力較低，但對工藝環(huán)境的控制能力要高得多。并去除顆粒。自動化工作站，也稱為罐式自動清洗機，是指在化學浴中同時清洗多個晶圓的設備。以目前的（頂級）技術，很難滿足整個工藝的參數(shù)要求。此外，由于同時清洗多個晶圓，自動化清洗站無法避免相互污染的弊端。

同時，鍍層附著力最大能做到多少表面處理也是非常有益的。隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，真空等離子體設備制造商的等離子體清洗技術已廣泛應用于電子、半導體、光電等高科技領域。以下是真空等離子體設備制造商處理金屬鋁的例子：經(jīng)真空等離子體設備表面處理后，接觸角由開始的87.7°下降到19.1°，大大改善了金屬鋁的表面潤濕性。。真空等離子體設備清洗技術在醫(yī)療行業(yè)中的應用；（1）靜脈輸液器在使用過程中，拔出時會出現(xiàn)針座與針管之間脫出的現(xiàn)象。

而等離子體表面處理是利用非聚合性無機氣體(Ar2、N2、H2、02等)的等離子體進行表面反應，鍍層附著力最大能做到多少通過表面反應在表面引入特定官能團，產(chǎn)生表面侵蝕，形成交聯(lián)結(jié)構層或生成表面自由基，在經(jīng)等離子體活(化)而成的表面自由基位置，能進一步反應產(chǎn)生特定官能團，如氫過氧化物。較為普遍的是在高分子材料表面導人含氧官能團。如-0Η、-00Η等。還有人在材料表面引入了胺基。

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  等離子技術是一新興的領域，該領域結(jié)合等離子物理、等離子化學和氣固相界面的化學反應，此為典型的高科技產(chǎn)業(yè)，需跨多種領域，包括化工、材料和電機，因此將極具挑戰(zhàn)性，也充滿機會，由于半導體和光電材料在未來得快速成長，此方面應用需求將越來越大。。

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