德拜屏蔽和等離子表面處理德拜長度概述:當(dāng)電荷 q 的負(fù)電荷積聚在等離子體表面處理過的等離子體中時,涂料與PMMA的附著力由于該靜電場對等離子體中粒子的熱運動的干擾,電荷的群效應(yīng)是正離子被吸引到它周圍并且電子被消除,在“負(fù)電荷”周圍形成一團(tuán)帶正電荷的“正電荷”,如圖 1-1 所示。從遠(yuǎn)處看,“正電荷”形成的云層減弱了“負(fù)電荷”的作用。也就是說,它削弱了遠(yuǎn)距離帶電粒子上的“帶負(fù)電”庫侖力。
等離子蝕刻機(jī)主要利用射頻等離子源(也有微波離子源)刺激反應(yīng)氣體產(chǎn)生等氣體離子對目標(biāo)物體進(jìn)行物理轟擊,pmma 真空鍍 附著力以達(dá)到清除指定物質(zhì)的手段。由于反應(yīng)強(qiáng)度要求較大,所以等離子蝕刻機(jī)基本上是利用射頻等離子體產(chǎn)生的。同樣,控制等離子體源的功率和其他相關(guān)參數(shù)可以降低反應(yīng)強(qiáng)度,從而可以清洗常見的電子元器件以去除污染物。從這個意義上說,他們可以分享。但在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中,蝕刻和清洗兩個工作步驟往往是分開的,不共用一套設(shè)備。
所以我們通??吹降氖钦婵盏入x子體清洗機(jī),涂料與PMMA的附著力當(dāng)機(jī)器啟動時,真空室顯示為暗紅色,表明真空等離子體正在產(chǎn)生反應(yīng)。在相同的放電環(huán)境下,氫氣和氮氣產(chǎn)生的等離子體顏色為紅色,而氬氣等離子體的亮度低于氮氣,高于氫氣,比較容易區(qū)分。的過程中去除晶片表面的顆粒,玻璃和其他產(chǎn)品,等離子體通常是用來轟擊粒子表面的材料,實現(xiàn)粒子的分散和放松,然后離心清洗和其他處理過程,將會有一個顯著的影響。它在半導(dǎo)體封裝應(yīng)用中尤為突出。
與燒灼相比,pmma 真空鍍 附著力等離子處理不會損壞樣品。同時,它可以非常均勻地處理整個表面而不會產(chǎn)生有毒氣體,即使是有空洞和縫隙的樣品也是如此。。