在電場作用下,不同材料附著力它們碰撞形成等離子體,然后會(huì)宣布輝光,因此稱為輝光放電處理。輝光放電的壓力對(duì)數(shù)據(jù)處理影響較大,其他因素與放電功率、氣體成分和流速、數(shù)據(jù)類型等有關(guān)。不同放電方式、工作物質(zhì)條件及上述對(duì)等離子體的影響體生成的元素可以相互結(jié)合,形成各種等離子體處理設(shè)備。。需要了解等離子清洗機(jī)的使用方法等離子體清洗在應(yīng)用中存在一些制約因素,主要表現(xiàn)在以下幾點(diǎn):1。物體表面的切割粉末不能用這種方法去除。
工作氣體用于在電磁場的作用下激發(fā)等離子體,不同材料附著力與物體表面發(fā)生物理化學(xué)反應(yīng),達(dá)到清洗的目的。超聲波清洗機(jī)是主要進(jìn)行清洗的濕式清洗機(jī)。明顯的灰塵和污染物,屬于粗洗。它是利用液體(水或溶劑)在超聲波振動(dòng)的作用下對(duì)物體進(jìn)行清洗,以達(dá)到清洗的目的。廣東金萊生產(chǎn)的等離子清洗機(jī)是一種清洗非常精細(xì)徹底的表面處理設(shè)備。等離子清洗的原理不同于超聲波的原理。當(dāng)機(jī)艙接近真空時(shí),高頻電源開啟。此時(shí),氣體分子被電離,產(chǎn)生等離子體。
激發(fā)頻率為40KHZ的等離子體為超聲波等離子體,不同材料的軟膠附著力13.56MHZ的等離子體為射頻等離子體,2.45GHZ的等離子體為微波等離子體。不同等離子體的自偏置電壓不同,超聲波等離子體的自偏置電壓也不同。高頻等離子的自偏壓在 0V左右,高頻等離子的自偏壓在250V左右,而微波等離子的自偏壓很低,只有幾十伏。體內(nèi)既有物理反應(yīng),也有化學(xué)反應(yīng)。
直噴裝置的等離子體能量比較集中,不同材料附著力加工時(shí)溫度略高,一次可加工的寬度一般為1厘米,適合加工線狀或點(diǎn)狀材料。要求不高。與直接噴射裝置相比,旋轉(zhuǎn)噴射等離子裝置具有更高的能量分散性,溫度不高,一次可加工的范圍較廣,因此適用于加工平面材料和材料。因此,它對(duì)溫度有特定的要求。 2.可用大氣噴射等離子清洗機(jī)處理的材料。大氣...