例如，naclo2 煤表面改性在微列陣工業(yè)，氨基可以為工作表面提供可直接黏附核苷（DNA或RNA）和寡核苷酸的粘結(jié)點。如果原子間的排列空間阻礙了結(jié)合這些大生物分子，這時可以使用原分子，有時也叫做“鍵合”。鍵合可以使生物分子以適當(dāng)?shù)慕Y(jié)構(gòu)吸附在表面提供空間。確實，鍵合分子本身也需要表面被活化以幫助它們固著在基體上。通常，氧氣等離子體的直接作用就可以滿足改善這些分子的結(jié)合效果。盡管如此，有時也需要一些特定的官能團(tuán)。
膜具有很強(qiáng)的熒光背景，煤表面改性降低對甲烷吸附過去需要使用同位素檢測，并不為人們所偏好。等離子體誘導(dǎo)接枝是近年來出現(xiàn)的一種新的實施方式，它允許通過輝光放電在短時間內(nèi)（幾秒到幾分鐘）形成等離子體，并將所需的官能團(tuán)直接接枝到膜上。與傳統(tǒng)方法相比，具有工藝簡單、操作方便、基膜和接枝單體選擇范圍廣等優(yōu)點。我們選擇了一種微孔PP聚丙烯薄膜作為原位生成DNA芯片的載體，并在H2和N2的混合氣氛中開始對薄膜進(jìn)行等離子體處理。
所以溝道通孔蝕刻普遍采用硬掩膜工藝蝕刻。通常使用等離子表面處理機(jī)等離子清洗機(jī)感應(yīng)耦合等離子蝕刻(ICP)機(jī)型完成此工藝。根據(jù)3D NAND結(jié)構(gòu)差異(主要為控制柵層數(shù)的差別)，煤表面改性硬掩膜材料主要為無定形碳。蝕刻氣體采用O2為主或者N2/H2組合氣體為主。掩膜蝕刻的控制需求主要包括:①圖形傳遞準(zhǔn)確度。避免蝕刻過程中產(chǎn)生圖形變形導(dǎo)致溝道通孔圖形的不準(zhǔn)確。②硬掩膜側(cè)墻需要連貫并且盡量垂直。
不同的產(chǎn)品、不同的材料、不同的加工目的、不同的產(chǎn)能要求等，煤表面改性降低對甲烷吸附都有相應(yīng)的解決方案和工藝參數(shù)。特別是對于粉末顆粒，等離...
