放電間隙窄，電暈機用幾根電極加工要求高；難點二：高性能DBD器件對介質(zhì)層材料的介電常數(shù)要求很高；難點三：宏觀均勻電場的微觀強化；難點四：電極材料和密封材料的抗氧化性；難點五：大氣壓平板電暈堆陣列激勵技術(shù)。。低級烷烴在常壓低溫電暈中的轉(zhuǎn)化反應(yīng)；低碳烷烴(C1～C4)是豐富的烴類資源，廣泛存在于天然氣、油田氣、煤層氣和催化裂化氣中。

1-4多層電極電暈容量相對較高，電暈機用幾根電極每個支架上可根據(jù)需要放置多片晶圓，更適合去除半導體分立器件和電力電子元件專用的4英寸和6英寸晶圓的光刻底膜。

真空電暈通過兩個電極形成電磁場，電暈機用幾根電極用真空泵實現(xiàn)一定的真空度，隨著氣體越來越稀薄，分子之間的距離和分子之間或自由運動的距離越來越長，在磁場的作用下，碰撞形成電暈，同時會產(chǎn)生輝光，電暈在電磁場空間內(nèi)運動，并轟擊被處理物體的表面，以去除表面油污和表面氧化物、灰表面有機物等化學物質(zhì)，從而達到表面處理、清潔和蝕刻的效果。通過電暈處理工藝可以實現(xiàn)選擇性表面改性。

電暈是物質(zhì)存在的一種狀態(tài)，電暈機用幾根電極又稱第四態(tài)（通常物質(zhì)為固體、液體和氣體），是利用高壓電源在一定壓力下向氣體添加足夠的能量而產(chǎn)生的。在清潔狀態(tài)下，有以下物質(zhì)：高速運動的電子，活性狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基），電離的原子、分子、未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)整體保持電中性。清洗性能主要與電暈激發(fā)速率有關(guān)。目前國際上常用的激發(fā)速率為40千赫、13.56MHz和20MHz。

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這是一種非破壞性的表面處理方法，可以在短時間內(nèi)徹底去除有機污染物，清潔能力達到分子水平。正負電暈?zāi)芙佑|表面毛刺，能快速去除膜線和毛刺！直接注入電暈的高溫熔化毛刺和膜線，從尖銳的毛刺變成更柔軟的邊緣。同時，它能產(chǎn)生高能電子、自由基等活性粒子，與毛刺快速反應(yīng)，最終轉(zhuǎn)化為CO2和H2O，不會產(chǎn)生二次污染，并由電暈槍頭噴出的高熱氣體蒸發(fā)。

電暈是由大量帶電粒子組成的非束縛宏觀系統(tǒng)，其中含有自由電子、自由離子，可能還有中性粒子。電暈是繼固體、液體、氣體三種物質(zhì)基本形態(tài)之后的第四種物質(zhì)形態(tài)，廣泛存在于自然界中。電暈的特性是：1.準電中性。由于高電離，任何破壞中性的擾動都會導致該區(qū)域出現(xiàn)強電場，從而恢復中性。也就是說，電暈中電荷分布偏差的空間和時間尺度都很小。2.導電性強。

根據(jù)是否與流水線連接或是否自動連接，可分為獨立式大氣電暈和在線式大氣射流電暈：獨立式（單機式）大氣射流電暈，即電暈發(fā)生器和電暈噴嘴。普通噴槍上部有安裝孔，用戶可根據(jù)需要加工安裝夾具，在流水線上任意使用。特殊電極材料的使用減少了污染，避免了工件的二次污染。

低電子溫度可以降低解離速率，從而降低晶圓表面轟擊能量、聚合物生產(chǎn)和真空紫外發(fā)射。低電子溫度可以使離子能量峰的寬度變窄，使精確控制能量打擊成為可能，從而提高選擇性。此外，在電暈的電暈關(guān)閉時間內(nèi)，新鮮氣體可以改變電暈的均勻性。另外，同步?jīng)_孔可以通過off比調(diào)節(jié)活性基通量和子通量，從而影響蝕刻選擇性比，影響程度與特定的蝕刻氣體有很強的相關(guān)性。

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