采用有機氟或有機硅單體，塑料啞光漆附著力好耐高溫采用低溫等離子體聚合技術(shù)在透鏡表面沉積出10nm的薄層，可改善其抗劃痕性和反射指數(shù)。國外還有等離子體化學(xué)氣相沉積技術(shù)應(yīng)用于塑料窗用玻璃、汽車百葉窗和氖燈、鹵天燈的反光鏡的報道。  等離子體聚合膜具有多種性能，可使同樣的基材應(yīng)用于很多領(lǐng)域。

不小心觸碰帶電和釋放的范圍，啞光漆附著力會產(chǎn)生貫穿全身的針灸針，但不會造成人身危險。正常情況下我們會關(guān)閉屏幕，保護充放電范圍，保證物理隔離。塑料板、槽、孔、環(huán)等復(fù)雜的三維表面，以保證一定的大氣壓等離子清洗設(shè)備與清洗半微米級的材料接觸面，不會影響材料的性能。以上總結(jié)的大氣等離子清洗設(shè)備常見操作手冊，大家可以查看一下，小編在此友情提示設(shè)備使用完畢后，一定不要忘記關(guān)機。。

  由于等離子清洗機的成本較低而且操作靈活，pet啞光漆附著力因此在各種高新科技行業(yè)中得到了非常廣泛的應(yīng)用，尤其是在半導(dǎo)體、微電子行業(yè)中以及集成電路電子行業(yè)和真空電子行業(yè)中的應(yīng)用，可以說是一件十分重要的設(shè)備。  除此之外，等離子清洗機在紡織、汽車、航空航天、生物工程、醫(yī)學(xué)醫(yī)療、塑料橡膠、考古等行業(yè)中也有十分廣泛的應(yīng)用。

從化學(xué)反應(yīng)式可知，pet啞光漆附著力典型的PE工藝是氧氣或氫氣等離子體工藝，用氧等離子通過化學(xué)反應(yīng)，能夠使非揮發(fā)性有機物變成易揮發(fā)性的CO2和水汽，去除沾污物，使表面清潔；用氫的等離子可通過化學(xué)反應(yīng)，去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。反應(yīng)氣體電離產(chǎn)生的高活性反應(yīng)粒子，在一定條件下與被清洗物體表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，反應(yīng)生成物是易揮發(fā)性物，可以被抽走，而針對被清除物的化學(xué)成分，選擇合適的反應(yīng)氣體組分是極為重要的。

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例：H2+e-→2H※+e- H※+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬＋H2O從反應(yīng)式可見，氫等離子體通過化學(xué)反應(yīng)可以去除金屬表面氧化層，清潔金屬表面。物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子體清洗，也叫濺射腐蝕（SPE）。

例2：從H2+E-→2H*+EH*+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O反應(yīng)式可以看出，氫等離子體可以去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。通過化學(xué)反應(yīng)。物理清洗：表面反應(yīng)以物理反應(yīng)為主的等離子清洗。也稱為濺射蝕刻 (SPE)。例：AR+E-→AR++2E-AR++污染→揮發(fā)性污染AR+在自偏壓或外加偏壓的作用下加速產(chǎn)生動能，然后將清潔后的工件放在負極上。到工件表面。

由于氣體粒子溫度較低（具有低溫特性），因此把這種等離子體稱為低溫等離子體。當(dāng)氣體處于高壓狀態(tài)并從外界獲得大量能量時，粒子之間的相互碰撞頻率大大增加，各種微粒的溫度基本相同，即Te基本與Ti及Tn相同，我們把這種條件下得到的等離子體稱為高溫等離子體，太陽就是自己界中的高溫等離子體。

C3初生碳化物改善(Cr，F(xiàn)e)，C3共晶組織增加了大量奧氏體組織，奧氏體在高溫和常溫下具有優(yōu)異的強韌性，可為涂層耐磨增強相提供有力支撐，減少涂層零件在使用過程中的開裂和剝落傾向。因此，大量TiC顆粒的合成和奧氏體組織的形成，（Cr Fe）和C3初生碳化物的減少或消除，以及（Cr,Fe）和C3共晶組織的改善，有效地提高了涂層的韌性，抑制了涂層裂紋的產(chǎn)生。

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傳統(tǒng)金屬 CU 刻蝕中使用的 CL2 氣體等離子體在高溫下與之反應(yīng)生成 CUCL2，pet啞光漆附著力在后續(xù)工藝中將其去除。 HESS課題組報道了一種低溫（10℃）H2氣體等離子刻蝕的方法，并在等離子表面處理機ICP的刻蝕室中成功實現(xiàn)了CU刻蝕。如掃描電子顯微照片所示，蝕刻工藝使用SIO2作為硬掩模材料形成圖案，用H2氣體等離子體蝕刻的 NM厚的CU薄膜明顯形成了階梯結(jié)構(gòu)，CU暴露在薄膜下方的SI襯底。