自旋轉(zhuǎn)移矩磁存儲(chǔ)器的制造也是通過在標(biāo)準(zhǔn)CMOS邏輯電路的后端金屬結(jié)層中央嵌入存儲(chǔ)單元（磁隧道結(jié)），ICP等離子清洗儀并集成自旋轉(zhuǎn)移矩磁隧道結(jié)的邏輯來實(shí)現(xiàn)的。 從后端電路和磁性隧道結(jié)的粗略工藝可以看出，磁性隧道結(jié)的蝕刻對(duì)于器件性能非常重要。目前使用的蝕刻技術(shù)包括等離子清潔器離子束蝕刻（ion beametching，IBE）、等離子清潔器電感耦合等離子蝕刻（ICP）、等離子清潔器反應(yīng)離子蝕刻（RIE）等系統(tǒng)。

由于鉭 (Ta) 的選擇性非常高，ICP等離子清洗儀因此可以通過足夠的過蝕刻來實(shí)現(xiàn)相對(duì)筆直的蝕刻形狀。 Ar / Cl 等離子體的大磁滯回線偏移是由于下面的釘扎層造成的。嚴(yán)重的腐蝕和比 Ar ICP 更小的 CH3OH 磁滯回線位移也表明在 CH3OH 等離子清潔器等離子蝕刻中存在化學(xué)反應(yīng)。通過這種化學(xué)反應(yīng)形成的含碳薄膜層吸收入射離子能量，從而降低等離子體損傷（PID）。

研究進(jìn)展表明，ICP等離子清洗機(jī)器通過優(yōu)化 CH3OH/Ar 比，可以改善由反應(yīng)離子刻蝕引起的材料不可避免的磁劣化所導(dǎo)致的磁阻劣化問題。除了氣體選擇優(yōu)化之外，脈沖功率技術(shù)的引入進(jìn)一步改善了對(duì)磁性隧道結(jié)刻蝕形狀的控制。除了各有優(yōu)缺點(diǎn)的 IBE 和 ICP 外，中性粒子束蝕刻 (NBE) 也是一個(gè)重要的候選技術(shù)。

一舉打破了以往同類產(chǎn)品完全依賴美國、日本、德國等國家和臺(tái)灣進(jìn)口的局面。優(yōu)質(zhì)、高性價(jià)比的設(shè)備和高效的售后服務(wù)，ICP等離子清洗儀得到國內(nèi)LED及IC封裝廠商的一致好評(píng)和認(rèn)可。市場占有率在同行業(yè)中排名第一。它主要利用無線電波范圍內(nèi)的高頻產(chǎn)生的等離子體，滲透到微小的孔洞和凹入的物體中，無論物體或物體的形狀如何，都能完成清潔工作。與其他表面相比，同類處理設(shè)備對(duì)等離子清洗機(jī)的清洗效果更高，提高了整條工藝線的處理效率。

ICP等離子清洗機(jī)器

顆粒比鐵鉻熔體小，在熔池的攪動(dòng)下更容易上浮和聚集，鍍層表面附近的TiC顆粒較多；鍍層較低區(qū)域的TiC顆粒較少。在等離子清潔裝置的等離子處理過程中快速加熱和冷卻會(huì)在涂層上產(chǎn)生高熱應(yīng)力并導(dǎo)致涂層出現(xiàn)裂紋。鐵鉻C-Ti涂層表面比較粗糙，但沒有裂紋。這是因?yàn)樵阼F鉻C涂層的碳化復(fù)合成分中加入Ti，發(fā)生Ti+C<→TiC反應(yīng)，現(xiàn)場合成TiC顆粒。 TiC形成的溫度高于初始碳化物析出溫度。

因此，這些分散的TiC顆?？梢允怯糜谔峒冦t的一次碳化物或用于去除鉻的一次碳化物。改善 C3 一次碳化物（鉻、鐵）和 C3 共晶結(jié)構(gòu)會(huì)增加許多奧氏體結(jié)構(gòu)。奧氏體在高溫和常溫下具有優(yōu)異的強(qiáng)度和韌性，可以增加涂層的耐磨性。該相提供了強(qiáng)有力的支持，C3 共晶結(jié)構(gòu)增加了許多奧氏體結(jié)構(gòu)。

因此，大量TiC顆粒的合成和奧氏體（CrFe）、C3（C3）、（鉻、鐵）的形成，以及C3共晶組織的改善，有效地提高了涂層的韌性，從而提高了涂層的韌性。抑制生成。裂縫。零件在摩擦作用下的磨損量一般與接觸應(yīng)力、相對(duì)速度、潤滑條件和摩擦副材料有關(guān)，而材料的耐磨性則與材料的硬度和顯微組織有關(guān)。因此，提高涂層的表面硬度是提高材料性能的重要途徑。

3. 表面蝕刻液 材料表面被反應(yīng)氣體等離子體選擇性蝕刻，蝕刻后的材料轉(zhuǎn)化為氣相并由真空泵排出。處理后材料的微觀比表面積增大，親水性好。 4、納米涂層溶液經(jīng)等離子清洗劑處理后，通過等離子體引導(dǎo)聚合形成納米涂層。各種材料可以通過表面涂層制成疏水（hydrophobic）、親水（hydrophilic）、疏油（耐油）和疏油（耐油）。 5. PBC制造方案 這實(shí)際上涉及到等離子刻蝕的過程。

ICP等離子清洗儀

等離子清洗機(jī)/等離子處理器/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子蝕刻、等離子脫膠、等離子涂層、等離子灰化、等離子處理、等離子表面處理等。通過等離子清洗機(jī)的表面處理，ICP等離子清洗機(jī)器可以提高材料表面的潤濕性，可以對(duì)各種材料進(jìn)行涂鍍，提高附著力和附著力，去除有機(jī)污染物和油污。同時(shí)潤滑。車身清潔劑、蝕刻表面改性劑、等離子清潔劑和增強(qiáng)型耦合等離子清潔劑表面清潔 IC 可以顯著提高鍵合線的鍵合強(qiáng)度并降低電路故障的可能性。