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A、 抽空真空艙內(nèi)的空氣a、放置樣本入艙內(nèi)；b、關(guān)閉三通閥（箭頭朝下）；c、握住清洗機(jī)門(mén)靠近真空艙；d、 開(kāi)啟真空泵上的電源開(kāi)關(guān)，等幾分鐘待抽空艙內(nèi)空氣，清洗機(jī)門(mén)合上。B、 抽氣a、打開(kāi)三通閥與室內(nèi)空氣相通，（lever指向針形閥needle valve）；b、輕輕打開(kāi)針型閥，讓空氣進(jìn)入清洗機(jī)艙內(nèi)。(needle valve要先關(guān)閉)。
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基站在華為體系內(nèi)屬于弱芯片業(yè)務(wù)，廣東生產(chǎn)等離子清洗機(jī)腔體規(guī)格尺寸齊全未來(lái)只要國(guó)內(nèi)28NM制程能夠成熟就可以支撐華為基站業(yè)務(wù)。目前國(guó)內(nèi)中芯國(guó)際和華虹半導(dǎo)體都已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了28nm芯片的量產(chǎn)。華為5G基站去美國(guó)化較難的環(huán)節(jié)國(guó)內(nèi)均已攻克。
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