在各種制造應(yīng)用中，電暈處理的方法這一原理可用于有選擇地修飾材料的表面性質(zhì)。利用電暈的能量對物體表面進(jìn)行處理，可以準(zhǔn)確、有針對性地提高材料表面的附著力和潤濕性。這樣便于在工業(yè)上使用新型（甚至完全非極性）材料，以及環(huán)保、無溶劑、無揮發(fā)性有機(jī)化合物的涂料膠粘劑。目前，許多化學(xué)表面處理工藝可以被電暈處理技術(shù)所取代。

真空電暈工作特性及電暈鞘層現(xiàn)象振蕩特性的解釋；真空電暈清洗設(shè)備廣泛應(yīng)用于電子、通信、汽車、紡織、生物醫(yī)藥等領(lǐng)域。

毫無疑問，用于電暈處理的方法和裝置如果沒有電暈和沖洗技術(shù)，集成電路、信息內(nèi)容和通信產(chǎn)業(yè)就不會像今天這樣發(fā)達(dá)。此外，電暈電暈設(shè)備和沖洗技術(shù)還應(yīng)用于光電子器件、機(jī)械設(shè)備和航空航天、聚合物、污染控制和（精密）測量等領(lǐng)域。

隨著電暈物理的發(fā)展，電暈處理的方法其應(yīng)用越來越廣泛，在許多高科技領(lǐng)域占據(jù)著關(guān)鍵技術(shù)的地位。電暈設(shè)備清洗技術(shù)對工業(yè)發(fā)展和現(xiàn)代文明有重大影響，是電子信息產(chǎn)業(yè)特別是半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)和光電產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。目前物理化學(xué)清洗方法大致可分為濕法清洗和干洗兩種。電暈清洗設(shè)備在干洗領(lǐng)域發(fā)展迅速，優(yōu)勢明顯。電暈清洗設(shè)備已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子封裝、精密機(jī)械等行業(yè)。

用于電暈處理的方法和裝置

石墨烯基材料已廣泛應(yīng)用于電容器、鋰電池、微納器件、傳感器、有機(jī)光電子器件、生物醫(yī)藥、催化等領(lǐng)域?；瘜W(xué)氧化還原法是目前廣泛應(yīng)用的制備石墨烯的方法之一，目前也有可能實現(xiàn)大規(guī)模制備。通常還原氧化石墨烯的方法是使用一些常用的還原劑，如水合肼、對苯二酚、強(qiáng)堿、氫碘酸鹽等，這些還原劑大多具有毒性或腐蝕性，會造成環(huán)境污染。而用物理方法還原氧化石墨烯不會對環(huán)境產(chǎn)生影響，是一種環(huán)境友好的方法。

3.避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑，這樣清洗后就不會產(chǎn)生有害污染物，所以這種清洗方法屬于環(huán)保綠色清洗方法。這在世界高度關(guān)注環(huán)境保護(hù)的當(dāng)下，更加顯示出它的重要性。IV:在無線電波范圍內(nèi)高頻產(chǎn)生的電暈不同于激光等直射射線。電暈的方向性不強(qiáng)，使其深入到物體的微孔和凹陷處完成清洗任務(wù)，因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些不易清洗的部件的清洗效果甚至比氟利昂清洗還要好。

在實際的熱電暈發(fā)生裝置中，陰極和陽極之間的電弧放電使流入的工作氣體電離，輸出電暈呈射流狀，可用作電暈射流、電暈炬等。另一方面，幾百帕以下的低壓電暈往往處于非熱平衡狀態(tài)，電子與離子或中性粒子發(fā)生碰撞在Te>>Ti,Ti>>Tn中幾乎沒有能量損失。我們稱這種電暈為冷電暈。低溫電暈廣泛應(yīng)用于工業(yè)應(yīng)用中，如真空（低壓）電暈。

通過電暈的表面處理，可以提高材料表面的潤濕能力，使多種材料可以進(jìn)行涂覆、涂層等操作，增強(qiáng)附著力和結(jié)合力，同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂，電暈可以處理各種材料，無論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物，還是高分子材料，都可以通過電暈處理活化其他材料的表面，加強(qiáng)這些材料的附著力、相容性和潤濕性。電暈表面處理設(shè)備，清洗和活化改性應(yīng)用：1。光學(xué)裝置。電子元件。半導(dǎo)體元件。激光裝置。薄膜基板等2。

用于電暈處理的方法和裝置

低溫電暈表面清洗設(shè)備不僅可以處理注塑殼體留下的油污，電暈處理的方法還可以活化成型殼體表面，加強(qiáng)其印刷、涂布等粘接（效果），使殼體上的涂層與基材連接牢固，涂布效果均勻，美觀更美觀，耐磨性大大提高，長期使用也不會出現(xiàn)涂布現(xiàn)象。同時，低溫電暈表面清洗設(shè)備產(chǎn)生的電離電暈是電中性的，不會損傷保護(hù)膜、ITO膜和偏振濾光片。該技術(shù)采用/低溫電暈表面清洗裝置，可實現(xiàn)無化學(xué)溶劑的在線清洗。。