等離子體處理提供了一個經(jīng)濟的方法來清洗和激活被進(jìn)一步加工的零件的表面。等離子設(shè)備表面處理改善了油墨、膠水和涂料在不同表面的潤濕性和附著力。若您需要了解表面處理技術(shù)背后的技術(shù)，山西等離子表面清洗機原理圖建議您到本公司參觀，參與處理過程，熟悉等離子的工作原理。本公司的等離子處理設(shè)備及產(chǎn)品并可提供表面處理及一項綠色環(huán)保的解決方案，在進(jìn)行下一步處理前預(yù)處理清洗復(fù)雜的表面。該方法特別適用于那些不能用常規(guī)處理機制處理的復(fù)雜表面的輪廓。

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等離子清洗設(shè)備的保養(yǎng)俗話說，山西等離子表面清洗機原理圖工欲善其事，必先利其器，一個好的工具往往能讓工作事半功倍。又說：功夫再高也怕菜刀，機器再好也要保養(yǎng)。

如前文所述，山西等離子表面清洗機原理圖HBr/O2對N型摻雜多晶硅的蝕刻率比未慘雜多晶硅高20%，極易產(chǎn)生縮脖效應(yīng)，因此 HBr/O2的過蝕刻量要嚴(yán)格控制，一般以30%為宜，過少的過蝕刻量會導(dǎo)致多晶硅柵側(cè)壁底部長腳(Footing)，過多的過蝕刻量會導(dǎo)致上部縮脖效應(yīng)加劇。 等離子表面處理機過蝕刻步驟盡管采用具有針對柵氧化硅較高蝕刻選擇比的HBr/O2蝕刻工藝，仍然容易導(dǎo)致硅穿孔(Pitting)及硅損傷。

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因為氬氣的分子比較大,電離后發(fā)生的粒子比較后,在進(jìn)行外表清洗和活化時一般會配合活性氣體混合使用,Z常見的就是氬氣和氧氣的混合。氧氣為高活性氣體,可有用地對有機污染物或有機基材外表進(jìn)行化學(xué)分化,但其粒子相對較小,斷鍵和轟擊才能有限,如加上必定比例的氬氣,那么所發(fā)生的等離子體對有機污染物或有機基材外表的斷鍵和分化才能就會更強,加快清洗和活化的效率。

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