鍵斷裂后，氧等離子清潔機有機污染物元素與高活性氧離子相互作用，發(fā)生化學反應，形成CO、CO2、H2O等分子結構，從表面分離出來，起到表面清潔作用。氧氣主要用于高分子材料的表面活化和有機污染物的去除，但不適用于易氧化的金屬表面。真空等離子體狀態(tài)下的氧等離子體看起來是淺藍色，在部分放電狀態(tài)下類似于白色。放電環(huán)境的光線比較亮，用肉眼觀察可能看不到真空室內的放電。氬 氬是一種惰性氣體。電離后產生的離子不與基材發(fā)生化學反應。

等離子清洗原理 等離子是一種非凝聚體系，氧等離子體處理機MW功率超過范圍其中膠體中含有足夠數量的正負電荷，且正負電荷數量相同，或物質的累積狀態(tài)，或大量帶電粒子群島..等離子體包含帶正電和帶負電的亞穩(wěn)態(tài)分子和原子。一方面，當各種活性粒子與被清洗物體表面接觸時，物體表面的各種活性粒子與雜質發(fā)生化學反應，形成揮發(fā)性氣體等物質，進而形成揮發(fā)性物質。它會被沖走。真空泵很爛。例如，活性氧等離子體與材料表面的有機物發(fā)生氧化反應。

例1：O2+E-→2O*+E-O*+有機物->CO2+H2O 從反應式可以看出，氧等離子體處理機MW功率超過范圍氧等離子體可以通過化學反應將非揮發(fā)性有機物轉化為揮發(fā)性H2O和CO2。例2：從H2+E-→2H*+EH*+非揮發(fā)性金屬氧化物→金屬+H2O反應式可以看出，氫等離子體可以去除金屬表面的氧化層，清潔金屬表面。通過化學反應。 2.2 物理清洗表面反應等離子清洗以物理反應為主。

因此，氧等離子清潔機放電氣體壓力的選擇對于低壓等離子清洗工藝非常重要。 2、氣體種類：被處理物體的基材及其表面污染物種類繁多，不同氣體放電產生的等離子清洗速度和清洗效果也大不相同。因此，應有針對性地選擇等離子體的工作氣體。例如，使用氧等離子體去除物體表面的油脂和污垢，或使用氫氬混合氣體等離子體去除氧化層。 3、放電功率：隨著放電功率的增加，等離子體的密度和活性粒子的能量可以增加，從而提高清洗效果。

氧等離子清潔機

基于等離子技術的切割/焊接技術、空間推進系統(tǒng)等等離子清洗技術為食品和醫(yī)療器械的表面清洗、滅菌提供了新的手段，并帶來了許多新的應用。相比慢熱消毒和輻射消毒會破壞材料本身，等離子技術可以秒殺各種表面細菌，各種病毒、真菌，可以殺滅孢子。等離子技術還為材料的表面預處理提供了傳統(tǒng)濕法化學的替代方法。一種新的綠色方法。。等離子清洗機中低溫氧等離子體處理絲織物的噴墨打印質量。

等離子清洗技術的一個重要優(yōu)點是它的多功能性，可用于各種材料的表面活化、清洗、蝕刻和沉積。使用等離子清洗技術的理由 該工藝是將高能等離子流直接施加于待清洗表面，以達到等離子清洗的目的?？梢赃x擇不同的氣體類型和比例來滿足許多等離子清洗要求。例如，有機沉積物可以用氧等離子體氧化，顆粒污染物可以用惰性氬等離子體機械洗掉，金屬表面的氧化可以用氫等離子體去除。

零件磨損很小，但在實際使用條件下，由于各種因素的影響，這可能很難實現。因此，如果潤滑膜被破壞，匹配部件將處于金屬狀態(tài)。 -金屬接觸此時，在高速、高溫、高壓的工作條件下，在接觸面積的小范圍內瞬間產生極高的摩擦熱，接觸材料熔化并粘附，形成損壞的原因...在高速下，損傷源會擴大，粘結劑會以碎屑的形式撕裂或剝落，這些碎屑會嵌入摩擦副之間。這些硬質顆粒在兩個滑動面之間形成切削作用，破壞摩擦面，造成熔合磨損。

“中科院等離子體物理研究所研究員孟躍東告訴記者，等離子體中帶電粒子之間的相互作用非?；钴S，利用這一特性可以完成各種材料的表面改性?！庇糜谥菩?，還可以防止傳統(tǒng)工藝造成的化學污染，還可以增加膠粘劑的粘度。目前，低溫等離子技術在工業(yè)應用中較為普遍，但在我國的應用范圍還很有限。

氧等離子清潔機

目前大多采用低溫等離子放電直接加工。然而，氧等離子體處理機MW功率超過范圍傳統(tǒng)的低溫等離子放電直接處理方法存在離子濃度低、處理效率低、表面污染和熱應力低等缺點，應用范圍有限。 RF 放電等離子體濃度可以增加一個數量級，從而導致更高的聚合速率。同時，等離子體將實驗樣品置于遠離等離子體處理區(qū)域的位置。遠處區(qū)域的活性粒子的能量是中等的。等離子體聚合反應溫和，副反應少，可控性強，具有聚合作用。接枝膜結構易于控制。