電子流量計(jì)采用美國進(jìn)口，CCP等離子體清洗機(jī)模擬量輸入輸出。范圍為0～200 SCCM，可在該范圍內(nèi)無級(jí)調(diào)節(jié)。根據(jù)特殊制造工藝的要求，PLC 可用于執(zhí)行 PID。通過調(diào)節(jié)質(zhì)量流量計(jì)，可以控制真空度?？筛鶕?jù)特殊制造工藝要求選用干泵、廢氣處理設(shè)備、濾油器、濾油回油設(shè)備等。采用高等離子清洗機(jī)的電極結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，高等離子均勻性和可靠性。

產(chǎn)生射頻場(chǎng)的方法有很多，CCP等離子體清洗機(jī)射頻場(chǎng)能量耦合效率和等離子體均勻性高度依賴于射頻激勵(lì)電極、線圈或天線的設(shè)計(jì)。工業(yè)中使用的兩種典型的射頻等離子體發(fā)生器是圖（A）所示的電容耦合等離子體（capacitively Coupled plasma，CCP）發(fā)生器和電感耦合等離子體（Inductively Coupled Plasma，ICP）發(fā)生器或轉(zhuǎn)耦合等離子體（TRANSFORMER）。

一般來說，CCP等離子體清洗機(jī)鍺蝕刻具有高縱橫比和多層結(jié)構(gòu)。在蝕刻過程中需要許多方法來保持良好的圖案轉(zhuǎn)移。基于氯（400W，200sccm，ER ~ 200?/s）的蝕刻不會(huì)損壞邊界界面（側(cè)邊界網(wǎng)格保持完整）。這對(duì)于高性能設(shè)備非常重要，并且可以避免損壞電網(wǎng)的后續(xù)修復(fù)。雖然蝕刻本身難度較大，但事實(shí)證明，側(cè)壁圖案的控制不足，無法獲得約 75° 的圖案角度，難以滿足實(shí)際需要。

2、低溫等離子發(fā)生器原理 等離子發(fā)生器是通過低壓放電（輝光、電暈、高頻、微波等）產(chǎn)生的電離氣體。在電場(chǎng)的作用下，CCP等離子體清洗機(jī)氣體中的自由電子從電場(chǎng)中獲得能量，成為高能電子。這些高能電子與氣體中的分子和原子發(fā)生碰撞。如果電子能量大于分子或原子的激發(fā)能，則產(chǎn)生受激分子或受激原子。按基地。不同能量的離子、來自恒星的輻射、冷等離子體中的活性粒子（可以是化學(xué)活性氣體、稀有氣體或金屬元素氣體）的能量一般為CC或其他C鍵。債券。

CCP等離子體去膠設(shè)備

在薄膜生長的早期階段，銅薄膜以島狀生長方式沉積在基板表面，因?yàn)殂~原子的聚集顆粒的尺寸受限于較低的沉積溫度作為銅顆粒的數(shù)量.板面增加，它們相互連接，最終形成連續(xù)的銅膜。。原材料短缺，PCB行業(yè)又要了！原材料短缺，PCB行業(yè)又要了！ 01 上游短缺 PCB制造的基礎(chǔ)材料是CCL（COPPERCLADLAMINATE覆銅板），上游主要是銅箔、玻璃纖維布、環(huán)氧樹脂等原材料。

冷等離子功率整流器不需要 VCC 來提供電路轉(zhuǎn)換所需的瞬態(tài)電流，電容器代表的功率很小。因此，電源端和接地端的寄生電感被旁路，在這段時(shí)間內(nèi)，沒有電流流過寄生電感，因此不會(huì)產(chǎn)生感應(yīng)電壓。通常，將兩個(gè)或多個(gè)電容器并聯(lián)放置，以降低電容器本身的串聯(lián)電感，從而降低電容器充電和放電回路的阻抗。注意：電容放置、器件間距、器件模式、電容選擇。

自動(dòng)等離子清洗機(jī)的等離子離子和電離度 自動(dòng)等離子清洗機(jī)的等離子離子和電離度 一般來說，組成自動(dòng)等離子清洗機(jī)的等離子體的基本粒子是電子、離子和中性粒子。設(shè) Ne 為電子密度，Nj 為離子密度，Ng 為中性粒子密度。顯然，對(duì)于單一大氣中只有一次電離的等離子體，有Ne=Ni，n可以用來表示任一帶電離子的密度，稱為等離子體密度。

大氣壓等離子清洗機(jī)的熱噴涂技術(shù)是所有熱噴涂技術(shù)中最靈活的，可以產(chǎn)生足夠的能量來熔化材料。由于使用空氣等離子清潔劑噴涂粉末作為涂層材料，因此空氣等離子清潔劑噴涂技術(shù)可以使用的涂層材料數(shù)量幾乎是無限的。流動(dòng)的工藝氣體（通常是氬氣（通常是氬氣、氮?dú)?、氫氣和氦氣的混合物））在陽極氧化過程（噴頭）和負(fù)極（電極階段）之間被電離成一股熱等離子體。

CCP等離子體去膠設(shè)備

真空等離子清洗機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)： 1.環(huán)保技術(shù)：等離子法是氣相干法反應(yīng)，CCP等離子體清洗機(jī)不消耗水資源，不添加化學(xué)試劑，不污染環(huán)境。 2、適用性：無論處理方式如何，都可以對(duì)被處理的基材類型進(jìn)行適當(dāng)?shù)奶??理，如金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)聚合物。

等離子體的高能量分解材料表面的化學(xué)物質(zhì)和有機(jī)污染物，CCP等離子體清洗機(jī)有效去除所有能阻止粘附的雜質(zhì)，使材料表面達(dá)到所需的條件。后續(xù)涂裝工藝。等離子清洗設(shè)備等離子表面處理設(shè)備應(yīng)用技術(shù)可用于對(duì)塑料、金屬、玻璃和纖維等多種材料進(jìn)行表面活化。處理過的表面的涂層和粘合都是有效活化材料表面的必要工藝步驟。