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親水性整理的原理

利用物理化學(xué)和物理化學(xué)的聯(lián)合作用，完成對(duì)介質(zhì)層的蝕刻。等離子體蝕刻原理：蝕刻是晶圓制造工藝中的一個(gè)重要環(huán)節(jié)，也是微電子IC制造工藝和微納制造工藝中一個(gè)十分重要的環(huán)節(jié)，它通常在光刻膠涂覆和光刻顯影后，以光刻膠為掩膜，通過物理濺射和化學(xué)作用將不需要的金屬除去，從而形成與光刻膠圖形相同的線形。等離子體刻蝕設(shè)備是目前主流的干式刻蝕方式，由于其刻蝕速度快，定向性好，已逐步取代濕式刻蝕。

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