我們深信等離子技術(shù)應(yīng)用范圍會越來越廣；技術(shù)的成熟，環(huán)氧基團(tuán)增強附著力成本的降低，其應(yīng)用會更加普及。。真空等離子表面處理工藝中為何要使用冷卻水： 工藝?yán)鋮s水是工業(yè)生產(chǎn)中常用的控溫介質(zhì)，其應(yīng)用十分廣泛，根據(jù)使用種類主要分為無塵車間冷卻、過程設(shè)備冷卻、生產(chǎn)過程冷卻等，在真空等離子清洗機(jī)表面處理中的應(yīng)用可歸結(jié)為工藝過程設(shè)備冷卻。

對于那些尋求先進(jìn)工藝節(jié)點芯片生產(chǎn)方案的制造商來說，環(huán)氧基團(tuán)增強附著力有效的無損清潔將是一個重大挑戰(zhàn)，尤其是10nm、7nm甚致更小的芯片。為了擴(kuò)展摩爾定律，芯片制造商必須能夠從不僅平坦的晶圓表面除去更小的隨機(jī)缺陷，而且還要能夠適應(yīng)更復(fù)雜、更精細(xì)的3D芯片架構(gòu)，以免造成損害或材料損失，從而降(低)產(chǎn)量和利潤。

在所有這些清潔過程中，為何環(huán)氧基團(tuán)能提高附著力碳?xì)浠衔锖突闹g的結(jié)合被削弱，獲得的能量將這些有機(jī)復(fù)合物與基材分離。一旦從（有機(jī)）化合物的分子組中分離出來，它們就會被惰性氣體除去。光照射、中性粒子流和等離子體產(chǎn)生的帶電粒子的影響相結(jié)合鍵的斷裂提供能量。這種能量首先被碳?xì)浠衔镂?，然后在各種形式的二次過程中消散。正是這些各種形式的二次加工，達(dá)到了表面清潔的效果。

等離子清洗機(jī)/等離子處理機(jī)/等離子處理設(shè)備廣泛應(yīng)用于等離子清洗、等離子刻蝕、等離去膠、等離子涂覆、等離子灰化、等離子處理和等離子表面處理等場合。通過等離子清洗機(jī)的表面處理，環(huán)氧基團(tuán)增強附著力能夠改善材料表面的潤濕能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、涂鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時去除有機(jī)污染物、油污或油脂。等離子清洗機(jī)主要適用于各種材料的表面改性處理∶以及等離子體輔助化學(xué)氣相沉積。

為何環(huán)氧基團(tuán)能提高附著力

等離子體是由正離子、負(fù)離子和自由電子等帶電粒子和不帶電的中性粒子如激發(fā)態(tài)的分子以及自由基組成的部分電離的氣體，由于其正負(fù)電荷總是相等的，故稱之為等離子體。一些非聚合性無機(jī)氣體（Ar、N2、O2等）在高頻低壓下被激發(fā)，產(chǎn)生含有離子、激發(fā)態(tài)分子和自由基等多種活性粒子的等離子體。

使原子和離子在與要清潔的表面碰撞之前達(dá)到最大速度。為了加速等離子體，需要高能量，從而可以增加等離子體中原子和離子的速度。需要低壓來增加原子之間的平均距離，然后再碰撞。這個距離稱為平均自由程。路徑越長，離子就越有可能撞擊要清潔的表面。等離子清洗裝置特點： 1) 采用13.56MHZ射頻電源，配備自動阻抗匹配裝置，可提供穩(wěn)定的加工工藝。 2）PLC控制方式，人機(jī)界面，安全聯(lián)鎖，控制可靠，操作方便。

為何環(huán)氧基團(tuán)能提高附著力