不同氣體中的能級(jí)均具有不同的能量轉(zhuǎn)換，涂層附著力變化曲線不同工藝氣體顯示了不同特色的發(fā)光，并因此發(fā)生不同特征的色彩。每種氣體電子躍遷時(shí)宣布的光波長(zhǎng)都不一樣，所以也就能夠看到不同色彩的輝光了。當(dāng)然你加大功率到一定程度看起來都是白光，由于光子太多了。

低溫等離子清洗的效果與特點(diǎn)　　與傳統(tǒng)的溶劑清洗不同，不同有機(jī)涂層附著力差異低溫等離子清洗機(jī)是依靠其中所包含高能物質(zhì)的“活化作用”達(dá)到清洗材料表面的目的，清洗徹底，是一種剝離式清洗。

不同的等離子體產(chǎn)生的自偏壓是不同的。超聲波等離子的自偏壓在0V左右，涂層附著力變化曲線高頻等離子的自偏壓在250V左右，微波等離子的自偏壓很低，幾十伏。三種等離子體的機(jī)理不同。超聲波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是物理反應(yīng)，高頻等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)既是物理反應(yīng)又是化學(xué)反應(yīng)，微波等離子體產(chǎn)生的反應(yīng)是化學(xué)反應(yīng)。但由于40KHz是早期技術(shù)，射頻匹配后的能耗太高，實(shí)際作用于待清潔物體的能量還不到原始能量的1/3。

在非常高的移動(dòng)速度下，不同有機(jī)涂層附著力差異氣流不太可能被吹走，并且在兩塊板都覆蓋有絕緣層后，帶電粒子到達(dá)絕緣介質(zhì)的表面而不是板的表面。將高頻交流電源的反向電壓加到兩塊極板后，兩極板間隙中空氣的強(qiáng)電場(chǎng)再次引起雪崩電離，電流立即被切斷。 , 并且電流曲線呈現(xiàn)尖銳的脈沖。此時(shí)，空氣中仍有帶電粒子，繼續(xù)朝著兩塊板移動(dòng)，繼續(xù)運(yùn)動(dòng)。這些帶電粒子被電離后，由等離子表面處理裝置產(chǎn)生，并以懸浮狀態(tài)存在于極板之間的氣隙中，從而容易將電離區(qū)吹掉。。

涂層附著力變化曲線

當(dāng)高頻交流電源的反向電壓加到兩個(gè)極板上時(shí)，由于強(qiáng)電場(chǎng)的作用，兩個(gè)極板間隙中的空氣再次雪崩電離，隨即電流被切斷，電流曲線呈現(xiàn)出尖銳的脈沖。此時(shí)，空氣中仍有帶電粒子，它們會(huì)繼續(xù)朝著兩個(gè)極板運(yùn)動(dòng)，繼續(xù)運(yùn)動(dòng)。這些帶電粒子是電離后的等離子體離子。由于它們以懸浮狀態(tài)存在于電極間的氣隙中，電離區(qū)很容易被吹出。。等離子低溫等離子體處理器是一種“干”而穩(wěn)定的清洗工藝，材料經(jīng)過處理后可立即進(jìn)入下一道加工工序。

如果兩塊板都覆蓋有絕緣片，這些帶電粒子將到達(dá)絕緣介質(zhì)的表面，而不是板，從而難以被氣流吹走。當(dāng)施加于雙極板的高頻交流電源電壓反向時(shí)，雙極板間隙中的空氣在強(qiáng)電場(chǎng)的作用下再次雪崩并電離，電流立即被切斷，產(chǎn)生一個(gè)脈沖陡峭的電流曲線。此時(shí)，基質(zhì)空氣中仍有帶電粒子，繼續(xù)向兩端的極板移動(dòng)。這些帶電粒子是電離離子，它們懸浮在極板間隙的空氣中，很容易被吹出電離區(qū)。

但是，帶有活性基團(tuán)的材料會(huì)受到氧的作用或分子鏈段運(yùn)動(dòng)的影響，使表面活性基團(tuán)消失，因此經(jīng)等離子體處理的材料表面活性具有一定的時(shí)效性。。吸收設(shè)備吸收法采用低揮發(fā)或不揮發(fā)性溶劑對(duì)VOCs進(jìn)行吸收，再利用VOCs和吸收劑物理性質(zhì)的差異進(jìn)行分離。含VOCs的氣體自吸收塔底部進(jìn)入塔內(nèi)，在上升過程中與來自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|，凈化后的氣體由塔頂排出。

在等離子清洗過程中，往往需要一定的時(shí)間，處理效果也有一定的差異。我們使用的設(shè)備越先進(jìn)，技術(shù)越成熟，能達(dá)到的效果越令人滿意，從而有效地為各大企業(yè)節(jié)約了生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)成本。 其次，等離子清洗設(shè)備在技術(shù)上不斷發(fā)展和升級(jí)。目前市場(chǎng)上常見的設(shè)備大多是國(guó)內(nèi)外技術(shù)領(lǐng)域的先進(jìn)研究成果，在整體應(yīng)用市場(chǎng)上也得到了很多企業(yè)的廣泛好評(píng)。我們?nèi)粘?duì)設(shè)備的正常操作使用，可以通過改變物質(zhì)的狀態(tài)和表面改性，達(dá)到清潔的目的。

涂層附著力變化曲線

真空等離子設(shè)備其主要過程包括︰首先將需要清洗的工件送入真空室固定，涂層附著力變化曲線啟動(dòng)真空泵等裝置開始抽真空排氣到10Pa左右的真空度;接著向真空室引入等離子清洗用的氣體（根據(jù)清洗材質(zhì)的差異，選用的氣體也差異，如氧氣、氫氣、氬氣、氮?dú)獾龋毫Ρ３衷?Pa左右;在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓，使氣體被穿透，并經(jīng)過輝光放電使其發(fā)生離子化，形成等離子體;在真空室內(nèi)形成的等離子體完全覆蓋被清洗工件后，開始清洗作業(yè)，清洗過程會(huì)持續(xù)幾十秒到幾分鐘。