這時(shí)候,安徽等離子清洗機(jī)施工單靠LES控制無(wú)法滿(mǎn)足流程要求,出現(xiàn)了雙重部署模式(dual deployment pattern)。uble Patterning)斷線(xiàn)過(guò)程可以很好的解決這個(gè)問(wèn)題。雙圖案工藝于2010年提出,三星的技術(shù)被新墨西哥大學(xué)起訴。從那時(shí)起,雙圖案技術(shù)的發(fā)明迅速發(fā)展。國(guó)內(nèi)和國(guó)內(nèi)這方面的知識(shí)產(chǎn)權(quán)安排已經(jīng)很多。業(yè)界在 28nm 工藝中引入了雙圖案化工藝,以避免多晶硅線(xiàn)邊緣過(guò)度收縮。

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此外,安徽等離子清洗機(jī)施工由于表面張力低,薄膜電路與玻璃之間的附著力差也會(huì)導(dǎo)致失效。解決此問(wèn)題的傳統(tǒng)方法是用棉簽和清潔劑手動(dòng)清潔 LCD 玻璃,但這種處理方法平均會(huì)導(dǎo)致高達(dá) 12% 的報(bào)廢率。使用等離子技術(shù)清洗 LCD 玻璃可去除雜質(zhì)顆粒,提高材料的表面能,并將產(chǎn)品良率提高一個(gè)數(shù)量級(jí)。同時(shí),射流冷等離子體是電中性的,因此在加工過(guò)程中不會(huì)損壞保護(hù)膜、ITO膜層和偏光濾光片。

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十、 等離子體發(fā)生器平板顯示a.ITO面板的清潔活化;b.光刻膠的去除;c.邦定點(diǎn)的清潔(COG)。。高頻等離子體發(fā)生器(點(diǎn)擊了解詳情)在工業(yè)中已有多方面的應(yīng)用,特別是在等離子體化工、冶金和光學(xué)材料提純等方面。等離子體發(fā)生器還可制備超導(dǎo)材料,如用氫高頻等離子體還原釩-硅(或釩-鍺),鈮-鋁(或鈮-鍺)的氯化物蒸氣以制備超導(dǎo)材料。

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