數(shù)字控制技術(shù)使用方便，鍍層附著力檢測(cè)原理自動(dòng)化程度高，整個(gè)過(guò)程非常高效。精確控制、精確時(shí)間控制和正確的真空等離子設(shè)備不會(huì)在表面上產(chǎn)生損壞層。表面質(zhì)量有保證。由于是在真空中進(jìn)行，不污染環(huán)境，清洗面無(wú)二次污染。。等離子表面處理技術(shù)原理及應(yīng)用等離子是第四物質(zhì)的狀態(tài)，是由被剝奪了部分電子的原子和原子電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子所組成的電離氣體，是一種狀態(tài)物質(zhì)。這種電離氣體由原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子組成。

Plasma等離子清洗原理通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在，鍍層附著力冷熱交變?cè)囼?yàn)而Plasma是物質(zhì)存在于3種物質(zhì)狀態(tài)之外的另一種狀態(tài)，及在一些特殊的情況下物質(zhì)原子內(nèi)的電子脫離原子核的吸引，使物質(zhì)呈為正負(fù)帶電粒子狀態(tài)。它的清洗原理就是在一組電極施以射頻電壓，區(qū)域內(nèi)的氣體被電極之間形成的高頻交變電場(chǎng)激蕩下，形成等離子體。

3.3等離子清洗設(shè)備 等離子清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下，鍍層附著力冷熱交變?cè)囼?yàn)壓力越來(lái)越小，分子間間距越來(lái)越大，分子間力越來(lái)越小，利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧、氬、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì)，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)**出去，從而達(dá)到表面清潔活化的目的。

目前廣泛應(yīng)用的工藝主要是在線等離子清洗設(shè)備工藝，鍍層附著力檢測(cè)原理等離子處理工藝簡(jiǎn)單、環(huán)保、清洗效果明顯，對(duì)于盲孔結(jié)構(gòu)非常有效。等離子體清洗是指高度活化的等離子體在電場(chǎng)作用下定向運(yùn)動(dòng)，與井壁污垢發(fā)生氣固化學(xué)反應(yīng)，部分未反應(yīng)的氣體產(chǎn)物和顆粒通過(guò)抽油泵排出。

鍍層附著力檢測(cè)原理

等離子清洗機(jī)（Plasma Cleaner）又被稱為等離子蝕刻機(jī)、等離子去膠機(jī)、等離子活化機(jī)、Plasma清洗機(jī)、等離子表面處理機(jī)、等離子清洗系統(tǒng)等。

等離子體作用于數(shù)據(jù)表面，使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生攻擊和重組，產(chǎn)生新的表面特性。等離子體表面活化清洗此外，等離子體表面處理機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì)，合理防止了液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物造成的二次污染。等離子體表面處理器外接真空泵。工作時(shí)，清洗腔內(nèi)的等離子體輕輕沖刷被清洗物體表面，有機(jī)污染物可在短時(shí)間內(nèi)被徹底清洗干凈。同時(shí)通過(guò)真空泵將污染物抽走，清潔程度達(dá)到分子級(jí)。是等離子清洗和等離子活化的專家，也是自動(dòng)化制造商。。

批量配氣系統(tǒng)中集中儲(chǔ)氣供氣的優(yōu)點(diǎn)一是供氣可靠穩(wěn)定，二是減少了雜質(zhì)顆粒的污染源，二是減少了日常供氣中的人為干擾。常見(jiàn)的氣體通常分為惰性氣體、還原性氣體和氧化性氣體，如表 6.1 所示。

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