等離子清洗的過程通常很耗時(shí)，如何提升丙烯附著力并且具有不同的治療效果。設(shè)備越先進(jìn)，使用的技術(shù)越成熟，效果越理想，有效節(jié)約大企業(yè)的生產(chǎn)經(jīng)營(yíng)成本。二是等離子清洗設(shè)備的技術(shù)不斷發(fā)展和升級(jí)。當(dāng)今市場(chǎng)上的通用設(shè)備大多是國(guó)內(nèi)外技術(shù)領(lǐng)域先進(jìn)研究的成果，在整個(gè)應(yīng)用市場(chǎng)上得到了眾多企業(yè)的廣泛認(rèn)可。我們?nèi)粘５娜粘２僮骱驮O(shè)備使用，可以通過改變物質(zhì)的狀態(tài)，修飾表面來達(dá)到清潔的目的。等離子清洗設(shè)備的節(jié)能環(huán)保也是我們關(guān)注的問題。

等離子體清洗機(jī)常用的等離子體激勵(lì)頻率有三種:超聲等離子體激勵(lì)頻率為40kHz，如何提升靜電噴涂附著力射頻等離子體激勵(lì)頻率為13.56MHz，微波等離子體激勵(lì)頻率為2.45GHz。自給偏壓的非均勻等離子體不同,超聲波的自給偏壓等離子約為1000 v,射頻等離子體的自給偏壓約為250 v,自給偏壓的微波等離子體很低,只要幾十伏,和三個(gè)等離子體的機(jī)制是不同的。

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等離子體表面處理設(shè)備是一種非破壞性的表面處理設(shè)備，如何提升靜電噴涂附著力它利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)，在一定的真空負(fù)壓下，通過電能將氣體轉(zhuǎn)化為高活性氣體等離子體，可以輕柔地沖洗固體樣品表面，引起分子結(jié)構(gòu)的變化，從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超凈。在極短的時(shí)間內(nèi)，通過外置真空泵將有機(jī)污染物完全抽走，其清潔能力可達(dá)分子級(jí)。在一定條件下，樣品的表面特性也可以改變。由于采用氣體作為清洗處理的介質(zhì)，可有效避免樣品的再次污染。

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以下是超大規(guī)模集成電路制造中常用的幾種等離子蝕刻機(jī)：電容耦合等離子蝕刻機(jī)（capacitively Coupled plasma，CCP）、電感耦合等離子蝕刻機(jī)（Inductively Coupled Plasma, ICP & Transformer Coupled Plasma, ICP & Transforms）。 ）。

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