在等離子清洗機(jī)PBGA涂層工藝中，海南大氣等離子清洗機(jī)廠家界面分層，例如芯片/塑料化合物與基板阻焊層/塑料化合物之間的界面，是一個(gè)主要問(wèn)題。 PBGA 封裝結(jié)構(gòu)比塑料四方扁平封裝 (PQFP) 等傳統(tǒng)邊界引線框架封裝更為復(fù)雜。多層界面需要更高的界面結(jié)合強(qiáng)度以防止分層。分層通常首先發(fā)生在尖端的邊緣，并在短時(shí)間內(nèi)向內(nèi)擴(kuò)展。當(dāng)失去兩面的附著力時(shí)，芯片與有機(jī)基板之間的熱失配應(yīng)力直接控制晶圓焊點(diǎn)，剝離后的焊料疲勞開裂導(dǎo)致電氣失效。

電暈處理對(duì)塑料表面的物理和化學(xué)作用是復(fù)雜的，海南大氣等離子清洗機(jī)結(jié)構(gòu)主要受三個(gè)方面控制： ① 特定電極系統(tǒng)， ② 導(dǎo)輥上的物理介質(zhì)， ③ 比電極功率。 ??由于不同的化學(xué)結(jié)構(gòu)具有不同的原子鍵，因此電暈處理對(duì)塑料的影響也取決于塑料的化學(xué)結(jié)構(gòu)。不同的塑料有不同的電暈處理強(qiáng)度。 ??實(shí)踐表明，BOPP薄膜的結(jié)構(gòu)狀態(tài)在制造后會(huì)發(fā)生變化。幾天之內(nèi)，聚合物將從無(wú)定形變?yōu)榻Y(jié)晶，影響電暈處理的效果。

依據(jù)化學(xué)成分分析用電子能譜(ESCA)和透射電鏡(SEM)的測(cè)量結(jié)果，海南大氣等離子清洗機(jī)廠家一般在離表面幾十到幾千埃的范圍內(nèi)，可以顯著改善界面物理性能，但不影響材料體相。 如果使用高能輻射或電子束進(jìn)行輻射處理，不可能只對(duì)薄表層進(jìn)行改性，因?yàn)槠湫ЧЧ矔?huì)涉及材料內(nèi)部，從而改變連體相的特性，從而大大限制適用范圍；但更適合那些需要在相當(dāng)厚的表層內(nèi)形成交聯(lián)結(jié)構(gòu)的加工，比如電線包層的硬化處理。。

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2. 電路板/柔性板HDI板：等離子清洗設(shè)備表面處理能去除激光鉆孔后形成的碳化物，刻蝕和活化導(dǎo)通孔，提高PTH工藝的良率與可靠性，克服鍍銅層與孔底銅材分層。FPC板：多層軟板的孔壁除殘膠，補(bǔ)強(qiáng)材料如鋼片、鋁片、FR-4等表面清潔和活化，以及激光切割金手指形成的碳化物分解，都可以通過(guò)等離子清洗設(shè)備表面處理技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。

等離子清洗機(jī)金屬蝕刻通常使用鹵素氣體(以含Br、 Cl、F氣體為主)，如果應(yīng)用于磁性存儲(chǔ)器的圖形化，帶來(lái)的副作用就是非揮發(fā)性蝕刻副產(chǎn)物殘留引起的金屬腐蝕問(wèn)題，在磁性存儲(chǔ)器核心單元的超薄單層材料蝕刻中表現(xiàn)更為明顯。雖然可以通過(guò)超350°C的高溫來(lái)活化蝕刻副產(chǎn)物，相關(guān)磁學(xué)性質(zhì)也會(huì)顯著退化。

TFT-LCD模組段的生產(chǎn)過(guò)程中，壓合區(qū)清潔的主要目的是去除玻璃基板表面殘留的固體微粒及有機(jī)物質(zhì)。固體顆粒可以通過(guò)毛刷清潔和無(wú)塵布清潔去除, 但是有機(jī)物質(zhì)需要通過(guò) Plasma進(jìn)行清潔。因前端工藝需要，生產(chǎn)過(guò)程中的有機(jī)物較多, 常見(jiàn)的主要有灌液晶過(guò)程中液晶的殘留、UV膠等。如果不能有效去除這些有機(jī)物，就會(huì)產(chǎn)生壓合異物、IC 壓合偏移等不良現(xiàn)象，從而產(chǎn)生線缺陷和無(wú)畫面等問(wèn)題。

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