工件表面上的污染物,如油脂、通量,膠卷,脫模劑,沖壓油,等等,很快就會被氧化成二氧化碳和水,并將由真空泵抽離,從而達(dá)到清洗的目的和改善表面滲透和附著力。低溫等離子體處理只涉及材料的表面，二氧化硅等離子體刻蝕設(shè)備不影響材料的性能。

等離子體原理與超聲波清洗原理相同，二氧化硅plasma去膠機(jī)當(dāng)模塊內(nèi)接近真空時，射頻通電，打開氣體電離，等離子體，并伴隨著輝光放電，等離子體在電場的作用下加速，從而在電場的作用下高速運(yùn)動，表面發(fā)生物理碰撞，等離子體的能量足以去除各種污染物，同時氧離子可以將有機(jī)污染物氧化成二氧化碳和水蒸氣帶出客艙。

等離子體產(chǎn)生的氧自由基具有很強(qiáng)的活性，二氧化硅等離子體刻蝕設(shè)備容易與碳?xì)浠衔锇l(fā)生反應(yīng)，產(chǎn)生二氧化碳、一氧化碳和水等揮發(fā)性物質(zhì)，從而清除表面污染物。

最終Z將有毒物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無毒物質(zhì)，二氧化硅等離子體刻蝕設(shè)備降解原污水中的污染物。臭氧氧化:在污水處理過程中，臭氧作為一種強(qiáng)氧化劑，使有害物質(zhì)結(jié)合，形成一些中間產(chǎn)物，降低了原污水的毒性和有害物質(zhì)的含量，經(jīng)過多次反射，最終將污染物的有機(jī)物質(zhì)分解成二氧化碳和水。對于無機(jī)物，可以形成某些氧化物來去除;紫外線分解:采用低溫等離子體技術(shù)，紫外線輻射可單獨(dú)或與臭氧結(jié)合分解有害物質(zhì)。

二氧化硅等離子體刻蝕設(shè)備

因此，為了保證產(chǎn)品的性能和質(zhì)量，建議等離子處理后的產(chǎn)品存放時間越短越好。三、等離子體處理設(shè)備在處理過程中不會產(chǎn)生有害物質(zhì)嗎?事實(shí)上,這個問題是完全不必要的擔(dān)心,等離子體表面處理干燥處理,不會使用的解決方案,不會產(chǎn)生廢液,,等離子體處理系統(tǒng)有一個完整的氣路系統(tǒng),氣體是無害的,如二氧化碳、水、臭氧、等等,并將與排氣系統(tǒng)排出。。

等離子清洗機(jī)常用的工藝氣體有氧氣(Oxygen, O2)、氬氣(氬氣，Ar)、氮?dú)?氮?dú)?，N2)、壓縮空氣(Compressed Air, CDA)、二氧化碳(Carbon,CO2)、氫氣(H2)、四氟化碳(CF4)等。由于采用物理+化學(xué)處理方式，電離的離子體可以對表面進(jìn)行物理轟擊，形成粗糙的表面。

等離子體表面處理技術(shù)以其環(huán)保、低成本的優(yōu)勢，越來越受到發(fā)動機(jī)面板廠家的重視!在等離子設(shè)備等離子處理前，PP表面能低，不易粘水，像水珠一樣。等離子體處理后PP表面增強(qiáng)，水滴易于擴(kuò)散和充分展開。

如果您對等離子表面清洗設(shè)備有更多的疑問，歡迎咨詢我們(廣東金來科技有限公司)

二氧化硅等離子體刻蝕設(shè)備

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