大氣與真空等離子清洗機的區(qū)別到底是什么？

最通俗易懂來說：大氣適合快速量產(chǎn)，真空型適合精密全面。

真空型等離子清洗機，按電源頻率劃分，40KHz和13.56MHz為例：通常情況下材料放入腔體內(nèi)工作，頻率為40KHz一般溫度為65°以下，再者機器內(nèi)部裝有強冷風(fēng)扇，處理時間不長的話，材料表面溫度都會跟室溫一致。頻率為13.56MHz的就會更低，通常情況是30°以下。

而大氣等離子清洗設(shè)備，如今應(yīng)用最多的就是手機行業(yè)：手機玻璃表面活化處理，底板點膠前處理，封裝前端處理，手機殼表面噴漆前活化處理等等。一般的手機工廠每日幾K到幾十K的產(chǎn)能，就必須要有快速高效的活化處理工藝，大氣等離子清洗機就是為此而生的。無論配合在三軸平臺，傳輸機還是裝在整條流水線上，大氣等離子清洗機都能快速使被處理材料其中一個表面達到很好的活化效果。

一、處理面：由于大氣等離子的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結(jié)構(gòu)間接的改變了離子的運動方向（直接面對被處理材料）。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個表面，這也是與真空等離子清洗最大的區(qū)別之一。而真空等離子清洗機在工作中，腔體內(nèi)部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，不管是哪個面哪個角落都可以洗得到。
二、使用氣體方面：大氣型等離子工作時只需要接入壓縮空氣，當(dāng)然想效果更好直接接入氮氣。而真空型等離子清洗機在氣體上會有更多的選擇，并且可以選擇多種氣體進行匹配對材料表面氧化物、納米級別微生物的去除有著極強的改善。在這里要強調(diào)的一點是：大氣型通入氣體的目的主要是為了活化，侵潤性增強。而真空型通入氣體的目的是為了增強蝕刻效果，去除污染物，去除有機物，侵潤性增強等。顯然氣體的選擇范圍更廣，等離子清洗的工藝會應(yīng)用得更為廣泛。

三、溫度：大氣等離子清洗機雖然處理材料幾秒之后的溫度在60°-75°左右，但這個數(shù)據(jù)是按照噴槍距離材料15mm，功率在500W，配合在三軸速度為120mm/s來測的。當(dāng)然功率，接觸時間，處理的高度都會對溫度有所影響。特別注意的是：大氣等離子清洗機噴槍工作時的噴出的“火焰”分為內(nèi)焰和外焰，我們清洗時都是拿外焰去洗，內(nèi)焰在噴嘴里面，從外面是看不到的。但是如果在噴出“火焰”的情況下長時間對著某一個點不運動進行處理很容易對表面產(chǎn)生灼燒。所以大氣等離子的溫度要在實際工況下才能測得具體數(shù)值。

四、離子產(chǎn)生條件：這個比較直觀的就可以看出，大氣型依賴接入氣體，氣體壓力要達到0.2mpa左右才可以產(chǎn)生離子。而真空型則依賴于真空泵，產(chǎn)生離子之前，即使不接入任何外接氣體，要將腔體內(nèi)部的真空度抽到25pa以下才能產(chǎn)生離子。