等離子清洗設(shè)備常用于各種材料的表面清洗和活化，以提高材料的表面能，但隨著時(shí)間的推移，但等離子處理器處理的材料的處理效果完全是隨著時(shí)間的推移，它會(huì)逐漸降低，直到停止工作。這種現(xiàn)象就是等離子清洗裝置。接下來，金徠將簡(jiǎn)要介紹影響等離子清洗設(shè)備時(shí)效性的因素以及合適的解決方案。
      事實(shí)上，等離子清洗設(shè)備的時(shí)效性非常復(fù)雜，主要是由于材料表面的動(dòng)態(tài)重組。它受處理氣體的種類、處理參數(shù)、化學(xué)成分、被處理材料的晶體結(jié)構(gòu)以及被處理材料的儲(chǔ)存環(huán)境等因素的影響。
      1、用等離子清洗裝置處理后，在材料表面引入活性基團(tuán)，提高材料的表面能，但這些活性基團(tuán)并不穩(wěn)定。隨著分子鏈的自由旋轉(zhuǎn)或運(yùn)動(dòng)，活性基團(tuán)逐漸轉(zhuǎn)向相鄰的分子或基團(tuán)，甚至在材料內(nèi)部，體系趨于穩(wěn)定，表面活性隨著時(shí)間的推移迅速增加。
      2、如果等離子處理后的產(chǎn)品儲(chǔ)存環(huán)境不理想，表面也會(huì)吸附各種顆粒物和有機(jī)污染物，降低材料的表面能。
      3、如果被處理的材料中含有聚合物和低分子量添加劑，如低抗氧化劑、增塑劑、抗靜電劑、潤(rùn)滑劑、著色劑、顏料、穩(wěn)定劑等，則會(huì)導(dǎo)致形成。儲(chǔ)存時(shí)間越長(zhǎng)，儲(chǔ)存溫度越高，材料的表面能下降得越快。

      4、當(dāng)?shù)入x子處理器加工的材料表面受到摩擦等外力作用時(shí)，材料部分的表面分子脫落或復(fù)合，材料的表面能降低。

等離子處理后時(shí)效性能保留多久？

      這是一個(gè)無法確認(rèn)的問題，因?yàn)榻?jīng)過處理，可能是由于數(shù)據(jù)本身的性質(zhì)、處理后的二次污染、化學(xué)反響等原因，處理后外觀的保存時(shí)間沒有得到很好的確認(rèn)。理論上可以選擇真空包裝來延緩等離子體處理的時(shí)效。一般情況下，我們建議客戶經(jīng)過低溫等離子體處理，達(dá)到較高的外部能量，立即進(jìn)行下一道工序，避免外部能量衰減的影響。

低溫等離子體處理后，表面自由基老化后殘留多長(zhǎng)時(shí)間？

      等離子體處理后，表面的自由基不會(huì)保持很長(zhǎng)時(shí)間，一般持續(xù)2天左右，根據(jù)材料不同，保持時(shí)間不同，有的時(shí)間長(zhǎng)一些，有的時(shí)間短一些。下一個(gè)過程越早進(jìn)行越好。為避免等離子處理后產(chǎn)品表面的二次污染，等離子清洗機(jī)處理后達(dá)到較高的表面能后，我們會(huì)建議立即進(jìn)行下一道工序，避免表面能衰減帶來的影響。
      以低溫等離子清洗機(jī)為例，常規(guī)產(chǎn)品的加工一般控制在1-3s內(nèi)。我們把要加工的產(chǎn)品放在真空室里，然后就可以進(jìn)行真空活化處理。根據(jù)產(chǎn)品的需要，我們可以設(shè)定清洗所需的時(shí)間，以達(dá)到所需的效果。
      等離子體表面處理具有時(shí)間敏感性，增加的表面能需要針對(duì)客戶特定的產(chǎn)品和工藝進(jìn)行測(cè)試。遺憾的是，我們無法改善plasma清洗后的確切有效期。因?yàn)榈入x子體清洗是一個(gè)物理化學(xué)變化的過程，產(chǎn)品不同，工藝不同，產(chǎn)品暴露在空氣中，材料表面的活性分子容易與其他物質(zhì)發(fā)生化學(xué)變化，所以金徠不能給出時(shí)效的標(biāo)準(zhǔn)答案。