等離子體清潔機(jī)技術(shù)，uv表面絲印附著力作為一種新型的表面處理和干法清潔工藝，近幾年來(lái)隨著各行各業(yè)尤其是精密電子行業(yè)對(duì)它的應(yīng)用研究持續(xù)深入，現(xiàn)已為大家所熟知。Plasma免溶劑干法精細(xì)化清洗，在淘汰ODS 和有機(jī)揮發(fā)性VOC清洗劑過(guò)程中能夠發(fā)揮重要作用，它相較于溶劑清洗俱有工藝簡(jiǎn)單、成本低、環(huán)保節(jié)能等特點(diǎn)，還可作為溶劑型深度清洗的重要補(bǔ)充。
根據(jù)等離子體作用下C2烴的產(chǎn)率，uv表面絲印附著力負(fù)載的過(guò)渡金屬氧化物的催化活性順序如下： Na2WO4 / Y-Al2O3> Cr2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3 ≈ NiO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Co2O3 / Y-Al2O3> ZnO / Y-Al2O3 ≈ MoO3 / Y-Al2O3 ≈ Re2O7 / Y-Al2O3 根據(jù) CO 產(chǎn)率的高低，負(fù)載的過(guò)渡金屬氧化物的催化活性順序如下： NiO / Y-Al2O3> TiO2 / Y-Al2O3> Re2O3 / Y-Al2O3 ≈ Fe2O3 / Y-Al2O3 ≈ Co2O3 / Y-Al2O3> MoO33 / Y-Al2O3 ≈ ZnO / Y-Al2O3 ≈ Mn2O3 / Y-Al2O3> Na2WO4 Y -Al2O3 ≈ Cr2O3 / Y-A12O3。
微波等離子體系統(tǒng)與RF射頻刻蝕系統(tǒng)相比具有較高的刻蝕速率。另一方面，uv表面附著力是什么意思直接微波等離子體工藝使電池溫度保持在很低的水平，避免了熱應(yīng)力。等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元器件的制造?？梢钥隙ǖ氖?，沒(méi)有等離子清洗工藝，就沒(méi)有今天如此發(fā)達(dá)的電子、信息和通信產(chǎn)業(yè)。
在蝕刻過(guò)程中，uv表面絲印附著力添加CHF3、N2、CH4等氣體以快速形成聚合物并提供側(cè)壁保護(hù)。這優(yōu)先將氟、氮或碳?xì)浠衔镂降浇饘黉X側(cè)壁，進(jìn)一步減少氯原子和鋁側(cè)壁。 壁接觸反應(yīng)以保護(hù)側(cè)壁，增加氯基氣體對(duì)金屬鋁的各向異性蝕刻能力。等離子工業(yè)清洗機(jī)研究了這三種不同氣體對(duì)蝕刻后金屬鋁側(cè)壁形態(tài)的影響。結(jié)果表明，N2保護(hù)氣體在刻蝕過(guò)程中產(chǎn)生了過(guò)多的側(cè)壁保護(hù)，并傾向于形成梯形側(cè)壁。
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通過(guò)實(shí)驗(yàn)，提高了等離子清洗機(jī)生產(chǎn)的耳機(jī)各部分之間的粘接效果，在長(zhǎng)時(shí)間的高音測(cè)試中不會(huì)出現(xiàn)斷音現(xiàn)象，使用壽命也大大提高。
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