因此，cob等離子體表面處理機(jī)等離子反應(yīng)器的能量密度越高，C2H6和CO2的轉(zhuǎn)化率就越高。同時(shí)，研究表明，: 增加的能量密度不適用于 C2H4 或 C2H2 選擇性。隨著能量密度從380 kJ/mol增加到1500 kJ/mol，C2H4的選擇性從36.0%下降到16.2%，C2H2的選擇性從55.4%下降。高達(dá) 24.2%。表 3-5 給出了能量密度對(duì)氣體產(chǎn)品 C2H4/C2H2 比和 H2/CO 比的影響。

對(duì)結(jié)論的分析表明，cob等離子體表面處理機(jī)等離子清洗機(jī)有兩個(gè)主要因素。 (1)等離子清洗機(jī)形成的等離子技術(shù)的放電產(chǎn)生苯酚的羥基(-OH)等親水基團(tuán)。羧酸的羧基（-OH）。通過在表層中引入COOH)和羰基(C=O)等官能團(tuán)，促進(jìn)向原料表層的滲透，以及基材表層的滲透。 (2)等離子清洗機(jī)的等離子技術(shù)，促進(jìn)原料中分子鍵的打開，去除交聯(lián)功能和產(chǎn)生的低分子量污染物，在原料表面形成清潔牢固的界面。促進(jìn)層的改進(jìn)，以及附著力和粘合強(qiáng)度。

添加CO2對(duì)等離子條件下C2H6脫氫反應(yīng)的影響 添加CO2對(duì)等離子條件下C2H6脫氫反應(yīng)的影響： 在800 kJ/mol等離子能量密度下添加CO2對(duì)C2H6脫氫反應(yīng)的影響 氫沖擊反應(yīng)：與等離子條件下純C2H6脫氫反應(yīng)的比較條件下，cob等離子清洗機(jī)C2H6 轉(zhuǎn)化率隨著系統(tǒng)中 CO2 添加量的增加而增加。這是因?yàn)樵诘入x子等離子條件下，CO2可能會(huì)與等離子產(chǎn)生的高能電子（CO2+e*→CO+O）發(fā)生分裂反應(yīng)，產(chǎn)生活性氧。

、壓縮空氣（compressed air，cob等離子清洗機(jī)CDA）、二氧化碳（carbon，CO2）、氫氣（hydrogen，H2）、四氟化碳（carbon tetrafluoride，CF4）。一般來說，傳統(tǒng)的清潔方法看起來很便宜，但很耗能以犧牲環(huán)境為代價(jià)。這種方法的干燥過程非常緩慢，需要大量的能量。等離子清洗技術(shù)消除了濕法化學(xué)清洗的各種危害，清洗過程中不產(chǎn)生廢液。傳統(tǒng)清潔技術(shù)中使用的化學(xué)試劑對(duì)環(huán)境非常有害。

cob等離子體表面處理機(jī)

這意味著增加等離子體輸出和減少供應(yīng)氣體的流量，即增加能量密度，將有助于增加 CH 和 CO2 的轉(zhuǎn)化率。當(dāng)能量密度為2200 kJ/mol時(shí)，CH4和CO2的轉(zhuǎn)化率分別為43.6%和58.4%。提高能量密度有利于提高CH4和CO2的轉(zhuǎn)化率，同時(shí)有利于甲烷中CH鍵（4.5eV）和二氧化碳中CO鍵（5.45eV）的斷裂，兩者的作用并不相同。

如果能量密度小于1500 KJ/mol，在相同實(shí)驗(yàn)條件下，CH4轉(zhuǎn)化率會(huì)高于CO2轉(zhuǎn)化率。即在低能量密度下，系統(tǒng)中高能電子的平均能量為：大多數(shù)電子與甲烷之間的CH鍵平均能量較低，結(jié)合能相近，但低于二氧化碳中CO鍵的裂解能，因此CH4轉(zhuǎn)化率高于CO2轉(zhuǎn)化率。當(dāng)能量密度超過1500 kJ/mol時(shí)，系統(tǒng)中電子的平均能量增加，大部分電子能量逐漸接近二氧化碳CO鍵的裂解能量，CO2轉(zhuǎn)化率迅速增加。

等離子清洗機(jī)的清洗過程，分析的效果和特點(diǎn)，與傳統(tǒng)的溶劑清洗等離子清洗體不同。基于所含高能物質(zhì)的“活化作用”，是一種具有徹底清潔效果的剝離式清潔，旨在清潔材料表面。等離子清洗機(jī)的功效和特點(diǎn)主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面： （1）被清洗材料表面無殘留物，多種等離子清洗可選配，產(chǎn)生多種清洗效果。加工工藝對(duì)材料表面性能的各種要求；（2）弱等離子體方向，便于清洗具有凹坑、空洞等復(fù)雜結(jié)構(gòu)的物體。

它引起正離子的功率吸收，這也直接引起電極，從而提高了極板的溫度。同時(shí)，離子在這個(gè)過程中吸收了一部分能量，因此電子對(duì)電離的能量吸收也相應(yīng)對(duì)應(yīng)，減少時(shí)，等離子體密度較低，離子能量較高，工藝溫度略低. 會(huì)更高。與中頻等離子清洗機(jī)不同，在射頻電容耦合方式的放電過程中，電極板產(chǎn)生的自偏壓受放電壓力的影響，自偏壓小，電子主要在表面的電極板。它發(fā)生是因?yàn)樗c振動(dòng)護(hù)套相互作用。

cob等離子清洗機(jī)

因此，cob等離子清洗機(jī)射頻等離子清洗裝置的激發(fā)頻率越高，電子功率吸收越高，相應(yīng)離子沖擊的能量就越低。關(guān)于微波等離子清洗機(jī)的放電，這種清洗是自偏的，離子濃度高，離子能量低，主要有表面波式和電子回旋共振式兩種方式。前者通常用于商業(yè)目的。輻射的微波電磁場(chǎng)直接分解氣體并實(shí)現(xiàn)放電。沒有離子加速，電子密度高，但通常需要高放電壓力，導(dǎo)致等離子體嚴(yán)重局部化。微波等離子清洗機(jī)除了多層次的大型清洗工藝外，不適用于一些精密電子元件的加工。。

生產(chǎn)廠房位于“中國昆山”，cob等離子清洗機(jī)公司品牌商標(biāo)為“-ATV”，引進(jìn)國外先進(jìn)的中頻、射頻、微波等離子應(yīng)用技術(shù)、等離子表面處理技術(shù)。全國大多數(shù)州和城市。真空等離子清洗機(jī)/常壓等離子處理機(jī)又稱低溫等離子處理機(jī)、等離子處理設(shè)備、等離子處理設(shè)備、低溫等離子表面處理機(jī)、等離子處理設(shè)備、等離子處理設(shè)備、等離子清洗機(jī)、等離子處理設(shè)備. 會(huì)有幾個(gè)標(biāo)題。