總結(jié):目前國內(nèi)等離子清洗機在半導體行業(yè)的應該主要還是應用在半導體封裝和清洗模組這塊,南昌微波等離子廠家報價如果是晶圓片刻蝕、除光刻膠,現(xiàn)在還是以進口機器為主,因為國內(nèi)的機器還不夠成熟,國產(chǎn)的機器也可以做等離子刻蝕,比如去年研發(fā)的等離子刻蝕機,已經(jīng)推向了市場,可以做一些基礎晶圓片的處理,但是還是有所差距,國內(nèi)其它做的比較好的等離子廠家也是如此,不過我覺得再經(jīng)過幾年的發(fā)展,再加上國內(nèi)廠商的支持,與進口機的差距將會進一步縮小,有什么問題歡迎交流探討!。
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可能的原因有: 1.隨著系統(tǒng)中CO2分子數(shù)量的增加,它吸收更多的能量,減少高能電子的數(shù)量,進一步打破CH3(CH2)自由基的CH鍵,阻止CH3的形成。 CH2和CH自由基濃度分布發(fā)生變化。自由基偶聯(lián)反應改變了系統(tǒng)中 C2 烴的分布; 2 正如 N2 和 He 等惰性氣體在等離子體發(fā)生器條件下參與甲烷偶聯(lián)反應一樣,系統(tǒng)中的 CO2 分子也起到稀釋氣體的作用。
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