與濕式化學(xué)處理工藝不同，電暈處理高壓法處理廢氣等離子體清洗機處理是干式處理工藝，等離子體清洗機通常使用氣體，而且是常見的氧氣、氮氣、壓縮空氣等氣體，不需要使用有機化學(xué)溶液，處理產(chǎn)生的氣體多為二氧化碳等無害氣體。由于反應(yīng)物和產(chǎn)物都是氣體，不需要干燥和廢水處理，所以用等離子清洗機處理無廢氣廢水成為可能。

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物理過程在物理過程中，電暈處理有什么用處原子和離子以高能量、高速轟擊待清洗物體表面，使分子分解，并用真空泵泵出。大多數(shù)物理清洗過程需要高能量和低壓。在轟擊待清洗物體表面之前使原子和離子的速度最大化。要加速等離子體，需要高能量，這樣等離子體中的原子和離子才能更快。在原子碰撞之前，需要低壓來增加原子間的平均距離。這個距離是指平均自由程。這條路徑越長，離子轟擊到被清潔物體表面的概率就越高。

等離子體清洗應(yīng)用于包裝工業(yè)的實驗、科研、醫(yī)藥和小規(guī)模生產(chǎn)中，電暈處理高壓法處理廢氣等離子體是一種存在狀態(tài)的物質(zhì)。通常情況下，物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在某些特殊情況下，還存在第四種狀態(tài)，比如地球大氣層電離層中的物質(zhì)。處于等離子體狀態(tài)的物質(zhì)有以下幾種：高速運動的電子；處于活化狀態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離原子和分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)作為一個整體保持電中性。

電暈處理高壓法處理廢氣

在等離子體中，存在著以下物質(zhì)：處于高速運動過渡態(tài)的電子，處于激發(fā)過渡態(tài)的中性原子、分子和原子團（自由基）；電離的原子、分子、分子解離反應(yīng)時產(chǎn)生的紫外線、未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)整體保持電中性。等離子體清洗的機理主要依靠等離子體中活性粒子的“活化”來去除物體表面的污漬。

等離子體清洗具有工藝簡單、操作方便、不處理廢物、不污染環(huán)境等優(yōu)點。但不能去除碳和其他非揮發(fā)性金屬或金屬氧化物雜質(zhì)。等離子體清洗機常用于光刻膠的去除過程中。在等離子體反應(yīng)體系中引入少量氧氣。在強電場作用下，氧氣產(chǎn)生等離子體，使光刻膠迅速氧化成揮發(fā)性氣體狀態(tài)，抽走物質(zhì)。等離子清洗機具有操作方便、效率高、表面清潔、無劃傷等優(yōu)點，有利于保證產(chǎn)品質(zhì)量。而且它不使用酸、堿和有機溶劑作為清洗原料，因此不污染環(huán)境。

例如，氣體分子，如氧氣、氮氣、甲烷、水蒸氣等，在低壓下受到高頻電場的輝光放電，會分解成加速的原子和分子，使產(chǎn)生的粒子解體為電子和帶正負電荷的原子和分子。這一過程中產(chǎn)生的帶電粒子和電子在電場中加速時獲得高能量，與周圍的分子或原子發(fā)生碰撞，使分子和原子再次被電子激發(fā)，同時處于激發(fā)態(tài)和離子態(tài)，此時物質(zhì)處于等離子體狀態(tài)。

電暈處理有什么用處