選項(xiàng)-真空探測(cè)器； -氣流混合器； -石英樣品盤； -真空泵;應(yīng)用案例照片：使用兩種工藝氣體的混合物進(jìn)行等離子清洗照片：氣流混合器兩道工序?qū)旌蠚怏w濃度進(jìn)行均勻測(cè)量，莆田真空等離子清洗的旋片羅茨式真空泵同時(shí)根據(jù)工藝氣體的流速實(shí)時(shí)檢測(cè)洗滌室空置濃度。下圖：PDC-002-HP 等離子清洗機(jī)應(yīng)用等離子清潔劑將被添加到除了超清潔功能之外，您還可以在特定條件下根據(jù)需要更改特定材料表面的屬性。

系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配件設(shè)備尺寸1105W*14880D*1842Hmm（含信號(hào)燈高度2158mm）水平板8層電極板403W * 450Dmm氣體流量控制器，莆田真空等離子清洗機(jī)泵組哪里買2 路工藝氣體0 -300ml/分鐘真空測(cè)量日本ulvav真空計(jì)人機(jī)界面觸摸屏自主研發(fā)電極距離48mm信號(hào)指示燈3 色帶報(bào)警真空泵90m3/h雙極油泵系統(tǒng)電源和機(jī)器電源：AC380V，50 / 60Hz額定功率 5000W系統(tǒng)重量（設(shè)備主機(jī)/真空泵） <600公斤占用區(qū)域：設(shè)備主機(jī)1805 (W) x1988 (D) x1842 (H) 毫米射頻電源射頻電源頻率13.56MHZ射頻電源 電源0W射頻功率匹配裝置自動(dòng)匹配，先進(jìn)的空氣冷凝器技術(shù)所需設(shè)備條件電源：AC380V，50 / 60Hz，三相無線7.5KVA壓縮空氣要求CDA 60-90psig 無水無油排氣系統(tǒng)≥2立方米/分鐘，中央廢氣處理管道足夠系統(tǒng)環(huán)境要求<30°（最高室溫）工藝氣體要求15-20paog 99.996% 或更高純度本文內(nèi)容如下：。

.. 2.表面活化（化學(xué)）溶液通過等離子表面處理機(jī)后，莆田真空等離子清洗的旋片羅茨式真空泵表面能、親水性、粘附性和粘附性都有所提高。 3.表面蝕刻液 材料表面通過反應(yīng)性氣體等離子體選擇性蝕刻，蝕刻后的材料轉(zhuǎn)化為氣相并由真空泵排出。處理后材料的微觀比表面積增加，親水性好。四。在用等離子清潔劑處理納米（米）涂層溶液后，等離子引導(dǎo)聚合形成納米（米）涂層。

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等離子處理器中微粒的力量在0~20eV之間，高聚物的鍵大多數(shù)是0~10eV， 等離子處理器技術(shù)功效于固體表層后，固體表層上原有的化學(xué)鍵就會(huì)破裂，等離子技術(shù)中的羥基自由基與這種鍵產(chǎn)生網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)化學(xué)交聯(lián)構(gòu)造，巨大地激活了表面活性。。等離子處理器在金屬表面粘接應(yīng)用　　等離子表面處理能使不銹鋼對(duì)玻璃、金屬對(duì)不銹鋼、金屬對(duì)塑膠及其它有色金屬材料（銅、鋁）具有很強(qiáng)的親和力，并且在提高被粘的物體表面粘附力仍非常強(qiáng)。

1、有機(jī)質(zhì)表面灰化2、表面上發(fā)生了化學(xué)反應(yīng)3、高溫真空狀態(tài)下，部分污染物蒸發(fā)。4、污染使高能離子在真空下破碎。5、由于等離子只能穿透數(shù)納米每秒的厚度，所以污染層不能太厚，手印同樣適用。6、金屬氧化物反應(yīng)后的氧化除去。印刷電路板的焊劑通常采用化學(xué)處理?；瘜W(xué)試劑焊接后需要用等離子法除去，否則會(huì)引起腐蝕問題。較好的結(jié)合容易削弱電鍍、粘接、焊接操作，并且表面等離子處理設(shè)備等離子體可以選擇性的去除。

提高材料的生物相容性是等離子體離子注入的另一個(gè)成功應(yīng)用，它可以單獨(dú)實(shí)現(xiàn)，也可以與 PVD ??或 CVD 工藝結(jié)合實(shí)現(xiàn)。例如，標(biāo)準(zhǔn)低溫各向同性熱解碳在體內(nèi)表現(xiàn)出強(qiáng)烈的圖像狀血栓聚集，而經(jīng) PIII 氧處理的鈦基生物材料放置在體內(nèi)后很明顯，沒有顯示任何（顯著）血栓。氧離子沖擊用于控制氧化物的生長(zhǎng)以形成金紅石相。

在等離子工藝過程中，除工藝氣體的選擇，等離子電源、電極結(jié)構(gòu)、反應(yīng)壓力等多種因素均會(huì)對(duì)處理效果產(chǎn)生不同的影響。 【應(yīng)用領(lǐng)域】 1).攝像頭、指紋識(shí)別行業(yè)：軟硬結(jié)合板金PAD表面去氧化；IR表面清洗、清潔。

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